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J-GLOBAL ID：200903050797589309

レジストパターンの形成方法

Inventor：
山本 祐介

About 山本 祐介

, 
袁 国礼

About 袁 国礼


Applicant, Patent owner：
三洋化成工業株式会社

About 三洋化成工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005335901
Publication number (International publication number)：2007140274
Application date： Nov. 21, 2005
Publication date： Jun. 07, 2007
Summary：
【課題】 解像度および感度に優れたレジストパターンの形成方法、並びにそのパターンの形成方法に適した感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 活性水素原子含有基を有する親水性ポリマー(A)、多官能アクリレートモノマー(B)、光ラジカル重合開始剤(C)、光酸発生剤(D)および架橋剤(E)を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物を、基板上に塗布および乾燥し、選択的に露光した後、引き続き50〜200°Cで加熱し、その後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
活性水素原子含有基を有する親水性ポリマー(A)、多官能アクリレートモノマー(B)、光ラジカル重合開始剤(C)、光酸発生剤(D)および架橋剤(E)を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物を、基板上に塗布および乾燥し、選択的に露光した後、引き続き50〜200°Cで加熱し、その後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
IPC (4)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/027 ,  C08F 290/00
FI (4)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/38 511 ,  G03F7/027 502 ,  C08F290/00
F-Term (61)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC42 ,  2H025BE00 ,  2H025CA18 ,  2H025CA23 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CB47 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H096AA26 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA03 ,  4J127AA03 ,  4J127AA06 ,  4J127BA061 ,  4J127BA071 ,  4J127BB041 ,  4J127BB131 ,  4J127BB221 ,  4J127BB281 ,  4J127BB301 ,  4J127BC031 ,  4J127BC131 ,  4J127BC151 ,  4J127BD201 ,  4J127BE34Y ,  4J127BE341 ,  4J127BE41Z ,  4J127BE411 ,  4J127BF31Y ,  4J127BF311 ,  4J127BG04Z ,  4J127BG041 ,  4J127BG10Y ,  4J127BG101 ,  4J127BG16Z ,  4J127BG161 ,  4J127BG17Y ,  4J127BG17Z ,  4J127BG171 ,  4J127CB341 ,  4J127CC091 ,  4J127DA10 ,  4J127DA25 ,  4J127DA47 ,  4J127DA51 ,  4J127EA15 ,  4J127FA17 ,  4J127FA18 ,  4J127FA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (6)
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