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J-GLOBAL ID：200903051276044310

スルホン化ポリイミド高分子電解質膜及びその製造方法

Inventor： 松田 愛子 ,  溝口 晃
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001168573
Publication number (International publication number)：2002367627
Application date： Jun. 04, 2001
Publication date： Dec. 20, 2002
Summary：

【要約】【課題】 成膜性に優れ、イオン交換基容量が大きく、機械的強度に優れたスルホン化ポリイミドからなる高分子電解質膜、その製造方法、及び該高分子電解質膜を固体高分子電解質膜として有する固体高分子型燃料電池を提供すること。【解決手段】 1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物と少なくとも1つのスルホン酸基を持つジアミン化合物とスルホン酸基を持たないジアミン化合物とを反応させて得られるポリアミド酸を成膜し、ポリイミド化したスルホン化ポリイミド膜であって、イオン交換基容量が1.30meq/g以上、引張破断応力が25MPa以上、かつ、引張破断伸びが3%以上であるスルホン化ポリイミド高分子電解質膜、並びにその製造方法。

Claim (excerpt)：

下記式(I)【化1】で表わされる構造単位(I)と、下記式(II)【化2】で表わされる構造単位(II)(式中、Ar1及びAr2は、互いに同一または異なっていてもよい二価の有機基であり、Ar1は、少なくとも1つのスルホン酸基によって更に置換されている。)とを有するスルホン化ポリイミドから形成され、イオン交換基容量が1.30meq/g以上、引張破断応力が25MPa以上、かつ、引張破断伸びが3%以上であるスルホン化ポリイミド高分子電解質膜。

IPC (6)：

H01M 8/02 ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/22 101 ,  C08J 5/22 CFG ,  H01M 8/10 ,  C08L 79:08

FI (6)：

H01M 8/02 P ,  C08G 73/10 ,  C08J 5/22 101 ,  C08J 5/22 CFG ,  H01M 8/10 ,  C08L 79:08 Z

F-Term (61)：

4F071AA60X ,  4F071AF10 ,  4F071AF12 ,  4F071AF14 ,  4F071AF36 ,  4F071AH12 ,  4F071AH15 ,  4F071FA05 ,  4F071FA09 ,  4F071FB03 ,  4F071FB07 ,  4F071FC01 ,  4F071FD02 ,  4J043PA04 ,  4J043PA08 ,  4J043PC185 ,  4J043PC186 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043QB61 ,  4J043RA34 ,  4J043RA39 ,  4J043SA05 ,  4J043SA06 ,  4J043SA36 ,  4J043SA54 ,  4J043SA82 ,  4J043SB02 ,  4J043TA14 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UA261 ,  4J043UA262 ,  4J043UA361 ,  4J043UA531 ,  4J043UB121 ,  4J043UB281 ,  4J043UB301 ,  4J043VA011 ,  4J043XA13 ,  4J043XA17 ,  4J043YA05 ,  4J043YA06 ,  4J043ZA31 ,  4J043ZA41 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB13 ,  4J043ZB14 ,  4J043ZB47 ,  5H026AA02 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB10 ,  5H026CX04 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026HH00 ,  5H026HH05 ,  5H026HH08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• イオン性膜、その製造方法、該イオン性膜の使用方法及び該イオン性膜を備えた装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-357148   Applicant：大日精化工業株式会社
• 高分子電解質膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-166353   Applicant：住友電気工業株式会社
• イオン導電性スルホン化重合体材料
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-528869   Applicant：バージニアテックインテレクチュアルプロパティーズインコーポレーテッド
• 架橋したスルホン化ポリマーおよびその製造法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平11-538749   Applicant：ハイドロ-ケベック
• スルホン化ポリイミド、膜及び燃料電池
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-539597   Applicant：コミッサリアタレネルジーアトミーク, セントルナショナルドゥラルシェルシュシアンティフィック

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Influence of the structure of sulfonated polyimide membranes on transport properties