化学増幅型レジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994034836
Publication number (International publication number)：1995244378
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、塗布性、焦点深度、感度及び解像度等の諸性能に優れた化学増幅型レジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ネガ型フォトレジスト組成物、並びに、アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、架橋剤、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤及び低重合度ポリシロキサンを含むことを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。

IPC (9)：

G03F 7/038 505 , C08K 5/46 , C08L 83/04 LRW , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/031 , G03F 7/039 , G03F 7/075 511 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

炭酸エステル環状化合物、その製造方法及びそれを用いてなるポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-005792 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-005793 Applicant：住友化学工業株式会社
特開平3-206458

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