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J-GLOBAL ID：200903051534455177

超純水製造供給装置の洗浄方法

Inventor：
菅原 広

About 菅原 広


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 三浦 進二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005118038
Publication number (International publication number)：2006297180
Application date： Apr. 15, 2005
Publication date： Nov. 02, 2006
Summary：
【課題】 超純水製造供給装置の新規立ち上げ時あるいは定期検査等による休止後の再立ち上げ時に、超純水が所望の水質に至るまでの洗浄試運転時間を短縮でき、また、現場で作業するのに適した立ち上げ方法を可能とする超純水製造供給装置の洗浄方法を提供する。【解決手段】 一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液により循環洗浄を行い、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを十分に行い、過酸化水素洗浄液による循環及び/又は浸漬洗浄を行い、更に純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
一次純水を処理して超純水を製造し使用場所へ供給する超純水製造供給装置の接液部の少なくとも一部に対して、塩基性洗浄液による循環洗浄を行う工程、純水による塩基性洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程、過酸化水素洗浄液による循環及び/又は浸漬洗浄を行う工程、及び、純水による過酸化水素洗浄液の押し出しとリンスとを行う工程をこの順序で行うことを特徴とする超純水製造供給装置の洗浄方法。
IPC (5)：
B08B 3/08 ,  B01D 12/00 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44 ,  B08B 9/02
FI (6)：
B08B3/08 Z ,  B08B3/08 A ,  B01D12/00 ,  B01D65/06 ,  C02F1/44 J ,  B08B9/02 Z
F-Term (27)：
3B116AA47 ,  3B116AB53 ,  3B116BB03 ,  3B116CC01 ,  3B116CD24 ,  3B201AA47 ,  3B201AB53 ,  3B201BB03 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CC01 ,  3B201CD24 ,  4D006GA06 ,  4D006KA01 ,  4D006KB11 ,  4D006KB30 ,  4D006KC02 ,  4D006KC16 ,  4D006KD17 ,  4D006KD22 ,  4D006KD30 ,  4D006LA10 ,  4D006PA01 ,  4D006PC02 ,  4D056EA01 ,  4D056EA03 ,  4D056EA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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