Pat
J-GLOBAL ID:200903051679902104
ウェーハ洗浄装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994198608
Publication number (International publication number):1996064568
Application date: Aug. 23, 1994
Publication date: Mar. 08, 1996
Summary:
【要約】【目的】 ウェーハの枚葉洗浄における洗浄液のウェーハの非洗浄面への回り込みによる汚染を防止する。【構成】 ウェーハ上面を洗浄しているとき、ウェーハ下面(非洗浄面)の外周部にガスを吹付けることによって上面から下面への洗浄液の回り込みを抑制する。ウェーハの外周に配置されたガイドピンによってウェーハを回転させる載置台からのウェーハの飛出しが防止される。また、ガス流あるいはガイドピンによってウェーハを載置台から持上げ、ウェーハ及び載置台間を非接触とし、ウェーハの汚染を防止する。【効果】 ウェーハの非洗浄面の汚染が防止される。
Claim (excerpt):
洗浄の対象となるウェーハを平らに載置でき、かつ回転可能である載置台と、前記ウェーハの外周を囲むように前記載置台の外周部に複数配置されるガイドピンと、前記ウェーハ及び前記載置台相互の空間に、前記ウェーハ下面を内側から外側に向って吹付けるガス流を形成するガス流形成手段と、前記載置台を回転駆動する回転駆動手段と、前記ウェーハの上面に、洗浄液を滴下するノズルと、を備えるウェーハ洗浄装置。
IPC (3):
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-213733
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
-
基板端縁洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-270875
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
ウエハ洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-298345
Applicant:菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
Return to Previous Page