金属クラスター生成装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 亀松宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006158697
Publication number (International publication number)：2007327095
Application date： Jun. 07, 2006
Publication date： Dec. 20, 2007
Summary：

【課題】真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットの照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、生成するクラスターのサイズ分布を狭く制御することを可能とした金属クラスター生成装置を提供する。【解決手段】真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットのレーザ照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、上記金属ターゲットにパルスレーザを照射するレーザ発生装置、および該放出された金属原子のプルーム形成位置を三次元的に取り囲む多数箇所に各々配置され、該プルーム形成位置に向けて不活性な冷却ガスを、上記パルスレーザの照射パルスと同期させてパルス状に吹き付ける多数のガス導入路を備えたことを特徴とする金属クラスター生成装置。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

真空容器内で金属ターゲットにレーザを照射し、該金属ターゲットのレーザ照射部から放出された金属原子のクラスターを生成する装置において、上記金属ターゲットにパルスレーザを照射するレーザ発生装置、および該放出された金属原子のプルーム形成位置を三次元的に取り囲む多数箇所に各々配置され、該プルーム形成位置に向けて不活性な冷却ガスを、上記パルスレーザの照射パルスと同期させてパルス状に吹き付ける多数のガス導入路を備えたことを特徴とする金属クラスター生成装置。

IPC (1)：

C23C 14/28

FI (1)：

C23C14/28

F-Term (3)：

4K029BA01 , 4K029CA01 , 4K029DC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

薄膜の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-230100 Applicant：大阪瓦斯株式会社
レーザイオンプレーティング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-341529 Applicant：工業技術院長, 新日本製鐵株式会社
二次電池用負極、その製造方法及びこれを用いた二次電池
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-072548 Applicant：松下電器産業株式会社

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