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J-GLOBAL ID：200903051796877846

高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸及びそれを用いた表面処理組成物

Inventor： 森永 均 ,  藤末 昌也
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996174892
Publication number (International publication number)：1998017533
Application date： Jul. 04, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】 基体表面への金属不純物の汚染を長時間にわたって防止し、安定的に極めて清浄な基体表面を達成する事ができる基体の表面処理組成物に用いられる高純度エチレンジアミンジオルヒドロキシフェニル酢酸を提供する。【解決手段】 Fe、Al、Znの内の少なくとも1つの金属元素の含有量が5ppm以下である高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸またはそのアンモニウム塩。

Claim (excerpt)：

Fe、Al、Znの内の少なくとも1つの金属元素の含有量が5ppm以下である事を特徴とする高純度エチレンジアミンジオルトヒドロキシフェニル酢酸またはそのアンモニウム塩。

IPC (5)：

C07C229/64 ,  C07C227/42 ,  C09K 3/00 108 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/304 341

FI (5)：

C07C229/64 ,  C07C227/42 ,  C09K 3/00 108 C ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/304 341 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-076881
  
• シリコンウェーハの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-351260   Applicant：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
• マイクロエレクトロニクス基板洗浄用のpH調整された、非イオン性表面活性剤含有アルカリ性クリーナー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-115235   Applicant：ジェイティ-ベ-カ-インコ-ポレイテッド