光透過性カーボン系薄膜とその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003108356
Publication number (International publication number)：2004315854
Application date： Apr. 11, 2003
Publication date： Nov. 11, 2004
Summary：

【課題】ソーラーパネルのコーティング材などとして可視光領域から赤外線領域にわたる広い範囲の光を利用できる、効率の良い光学特性を有する光透過性カーボン系薄膜とその製造方法を提供する。【解決手段】シリコン基板上にカーボン薄膜を成膜すると同時にカーボン薄膜に窒素を添加し、その後熱処理を行うことで窒素の含有量を減少させて屈折率および吸収係数を調整し、窒素あるいは窒素と水素が添加された屈折率が1.98の光透過性カーボン系薄膜を得る。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

シリコン基板上にカーボン薄膜を成膜すると同時にカーボン薄膜に窒素を添加して窒素を含有するカーボン系薄膜を形成し、その後熱処理を行うことで窒素の含有量を減少させてカーボン系薄膜の屈折率および吸収係数を調整することを特徴とする光透過性カーボン系薄膜の製造方法。

IPC (6)：

C23C14/06 , C01B21/082 , C01B33/02 , C23C14/34 , G02B1/10 , G02B5/22

FI (6)：

C23C14/06 F , C01B21/082 K , C01B33/02 Z , C23C14/34 M , G02B5/22 , G02B1/10 Z

F-Term (18)：

2H048CA01 , 2H048CA05 , 2H048CA12 , 2H048CA14 , 2K009CC01 , 2K009DD04 , 2K009DD09 , 4G072AA01 , 4G072AA50 , 4G072UU02 , 4K029AA06 , 4K029BA34 , 4K029BC08 , 4K029CA05 , 4K029DC02 , 4K029DC35 , 4K029DC39 , 4K029GA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

基板上への炭素皮膜の生成方法及びそれによって得られた炭素皮膜を有する基板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-194696 Applicant：イー.エム.エス.イオネン-ミクロファブリカショーンズズィステーメゲーエムベーハー, ユニバーズィテートゲゼームトクシューレカッセル, ウスタフポチタコビッチシステモフ,スロベンスカアカデミアフレト
特開昭62-180056
高SP3内容を有する第1炭素被膜と低SP3内容を有する第2炭素被膜とを含む磁気ディスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-192251 Applicant：コマッグ・インコーポレイテッド

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