光導波路および光回路基板

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000387852
Publication number (International publication number)：2002189135
Application date： Dec. 20, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：

【要約】【課題】従来のフォトニック結晶を利用した光導波路では、下方の基板への光損失が生じていた。【解決手段】基板3上に形成された、コア部1と、このコア部1を両側から挟み込むように配置され、光伝搬方向に直交する方向にそれぞれ周期的に屈折率が変化している周期構造を有するとともにこの周期構造の少なくとも一方が基板3の表面に対し基板3側で他方との間隔が狭くなるように傾斜しているクラッド部2とから成る光導波路である。基板3側への光損失を抑え、光伝搬特性が良好で、薄型化・小型化を図ることができ、作製工程が比較的単純でかつ簡便であり、機械強度も強い光導波路となる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された、コア部と、該コア部を両側から挟み込むように配置され、光伝搬方向に直交する方向にそれぞれ周期的に屈折率が変化している周期構造を有するとともに該周期構造の少なくとも一方が前記基板の表面に対し基板側で他方との間隔が狭くなるように傾斜しているクラッド部とから成ることを特徴とする光導波路。

IPC (2)：

G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (3)：

G02B 6/12 N , G02B 6/12 Z , G02B 6/12 M

F-Term (7)：

2H047KA03 , 2H047KA12 , 2H047MA07 , 2H047QA02 , 2H047TA04 , 2H047TA36 , 2H047TA43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

低損失光及び光電子集積回路
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-516248 Applicant：マサチユセツツ・インスチチユート・オブ・テクノロジー
複合フォトニック結晶
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-565424 Applicant：マサチューセッツインスティテュートオブテクノロジー
半導体光結晶素子の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-200340 Applicant：日本電信電話株式会社

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