異物検査方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：平木祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001054671
Publication number (International publication number)：2002261136
Application date： Feb. 28, 2001
Publication date： Sep. 13, 2002
Summary：

【要約】【課題】異物がパターン形成プロセスに対して致命的であるか否かを容易、かつ確実に判断する。【解決手段】試料画像26における異物部分の二次電子プロファイル28と参照画像21の同じ部分の二次電子プロファイル27から異物のみの二次電子プロファイル29を得る。パターンのみの二次電子プロファイル27と異物のみの二次電子プロファイル29のピーク波形の重なり30を見ることで、異物25aがパターン23に接触している箇所を検出し、異物がプロセスにおいて致命的か否かを判断する。

Claim (excerpt)：

パターンが形成された試料の異物が存在する検査領域を電子線で走査し、異物を含んだパターンの二次電子プロファイルを取得するステップと、前記検査領域と同一のパターンを有する他の領域であって異物が存在しない領域を電子線で走査し、異物を含まないパターンの二次電子プロファイルを取得するステップと、前記異物を含んだパターンの二次電子プロファイルと異物を含まないパターンの二次電子プロファイルから異物の二次電子プロファイルを得るステップと、前記異物の二次電子プロファイルと異物を含まないパターンの二次電子プロファイルとを比較することによって異物がパターン形成プロセスにおいて致命的なものであるか否かを判定する判定ステップとを含むことを特徴とする異物検査方法。

IPC (4)：

H01L 21/66 , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 , G01N 21/956

FI (4)：

H01L 21/66 J , G01N 23/225 , G06T 1/00 305 A , G01N 21/956 A

F-Term (40)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001GA04 , 2G001HA13 , 2G001JA07 , 2G001JA13 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA03 , 2G001PA11 , 2G051AA51 , 2G051AB01 , 2G051AC21 , 2G051BA20 , 2G051DA07 , 2G051EA03 , 2G051EA08 , 2G051EC01 , 2G051EC10 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA41 , 4M106DB05 , 4M106DB18 , 4M106DB21 , 4M106DJ18 , 4M106DJ20 , 4M106DJ26 , 5B057AA03 , 5B057BA01 , 5B057DA03 , 5B057DA13 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC04 , 5B057DC16 , 5B057DC22 , 5B057DC33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-320576 Applicant：株式会社東芝
異物検査方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-179605 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
パターン欠陥検査方法および検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-091269 Applicant：株式会社日立製作所

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