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J-GLOBAL ID:200903051937837100

過酸化水素の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005145048
Publication number (International publication number):2006321673
Application date: May. 18, 2005
Publication date: Nov. 30, 2006
Summary:
【課題】 触媒を用いて分子状水素及び分子状酸素から過酸化水素を製造する際に用いる触媒であって、従来知られている製造方法による触媒に、より高い活性を与えた触媒を用いる過酸化水素の製造方法を提供する点にある。【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明は、少なくとも以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造された触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法に係るものである。第1工程 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、第2工程 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、第3工程 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、第4工程 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
Claim (excerpt):
分子状水素と分子状酸素を用いて過酸化水素を製造する方法であって、以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造される触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法。 第1工程: 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物のうち少なくとも1種類以上の元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、 第2工程: 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、 第3工程: 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、 第4工程: 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
IPC (2):
C01B 15/029 ,  B01J 23/58
FI (2):
C01B15/029 ,  B01J23/58 M
F-Term (18):
4G169AA03 ,  4G169BA05B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC02B ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC73A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BD12C ,  4G169CB81 ,  4G169FB40 ,  4G169FB44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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