Pat
J-GLOBAL ID:200903051937837100
過酸化水素の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005145048
Publication number (International publication number):2006321673
Application date: May. 18, 2005
Publication date: Nov. 30, 2006
Summary:
【課題】 触媒を用いて分子状水素及び分子状酸素から過酸化水素を製造する際に用いる触媒であって、従来知られている製造方法による触媒に、より高い活性を与えた触媒を用いる過酸化水素の製造方法を提供する点にある。【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明は、少なくとも以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造された触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法に係るものである。第1工程 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、第2工程 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、第3工程 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、第4工程 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
Claim (excerpt):
分子状水素と分子状酸素を用いて過酸化水素を製造する方法であって、以下の第1工程〜第4工程を含む製造方法によって製造される触媒を用いることを特徴とする過酸化水素の製造方法。
第1工程: 周期律表の第8族,9族,10族又は11族元素化合物のうち少なくとも1種類以上の元素化合物を担体に担持し、前駆体(A)を得る工程、
第2工程: 第1工程で得た前駆体(A)を還元剤で処理し、前駆体(B)を得る工程、
第3工程: 第2工程で得た前駆体(B)を酸化剤で処理し、前駆体(C)を得る工程、
第4工程: 第3工程で得た前駆体(C)を還元剤で処理する工程。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (18):
4G169AA03
, 4G169BA05B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC02B
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BC73A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BD12C
, 4G169CB81
, 4G169FB40
, 4G169FB44
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
特開昭52-71000号公報
-
過酸化水素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-032096
Applicant:三井東圧化学株式会社
-
不均質触媒作用による過酸化水素の直接合成法、その合成のための触媒及びその触媒の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-276032
Applicant:アンテロックスアンテルナショナル
-
米国特許第6534440号
Show all
Cited by examiner (7)
-
過酸化水素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-314073
Applicant:三菱瓦斯化学株式会社
-
過酸化水素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-032096
Applicant:三井東圧化学株式会社
-
過酸化水素の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-170856
Applicant:三井東圧化学株式会社
Show all
Return to Previous Page