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J-GLOBAL ID：200903051946019894

感光性樹脂組成物

Inventor： 浦上 達宣 ,  詫摩 啓輔 ,  山口 彰宏
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994325445
Publication number (International publication number)：1996179502
Application date： Dec. 27, 1994
Publication date： Jul. 12, 1996
Summary：

【要約】【構成】 フェノール類とジシクロペンタジエンからなる共重合樹脂を、必須のアルカリ可溶性樹脂成分とし、さらに光反応性成分を配合してなる感光性樹脂組成物。【効果】 248nm付近に吸収の少ないフェノール-ジシクロペンタジエン樹脂を、アルカリ可溶性樹脂として用いることにより、より高感度、高解像度が得られるエキシマレーザー、特に、KrFエキシマレーザーを用いてレジストパターンを得るシステムを与えるものである。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂成分として、一般式(1)(化1)で表されるフェノール-ジシクロペンタジエン樹脂を10〜100重量%含んだ樹脂、および、(B)光反応性成分、を含む感光性樹脂組成物。【化1】(式中、R1 、R2 は各々独立に、水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、水酸基を示し、互いに異なっていても同一であってもよく、nは0〜20の整数を示す)

IPC (3)：

G03F 7/023 511 ,  C08L 65/00 LNY ,  G03F 7/022

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-358731   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-048199   Applicant：日本石油株式会社
• 特開平3-071139
  
• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-098671   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-130553   Applicant：日本石油株式会社
• ポジ型フオトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-063858   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-132961   Applicant：日立化成工業株式会社
• 特開平3-071139