Pat
J-GLOBAL ID:200903051993018480
循環式乾燥装置および循環式乾燥方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002040598
Publication number (International publication number):2003240437
Application date: Feb. 18, 2002
Publication date: Aug. 27, 2003
Summary:
【要約】【課題】 低コストで循環系内の揮発成分の濃度と酸素濃度を低く抑えることができ、排ガスによる環境負荷が少なく、工業的に非常に有利な循環式乾燥装置および循環式乾燥方法を提供する。【解決手段】 加熱器11と乾燥器12との間でガスを循環させながら、加熱器11で加熱されたガスによって乾燥器12内の揮発成分を含む乾燥対象物を乾燥する循環式乾燥装置であって、加熱器11と乾燥器12との間で循環しているガスの一部を抜き取る分岐流路25と、抜き取られたガスに含まれる揮発成分を分解または回収するガス処理装置16と、ガス処理装置16から排出されるガスを、加熱器11と乾燥器12との間で循環しているガスに戻す供給流路26とを具備する循環式乾燥装置、およびこれを用いた循環式乾燥方法。
Claim (excerpt):
加熱器と乾燥器との間でガスを循環させながら、加熱器で加熱されたガスによって乾燥器内の揮発成分を含む乾燥対象物を乾燥する循環式乾燥装置であって、加熱器と乾燥器との間で循環しているガスの一部を抜き取る分岐流路と、抜き取られたガスに含まれる揮発成分を分解または回収するガス処理装置と、ガス処理装置から排出されるガスを、加熱器と乾燥器との間で循環しているガスに戻す供給流路とを具備することを特徴とする循環式乾燥装置。
IPC (5):
F26B 21/04
, F26B 3/04
, F26B 9/06
, F26B 21/06
, F26B 23/10
FI (5):
F26B 21/04 B
, F26B 3/04
, F26B 9/06 A
, F26B 21/06
, F26B 23/10 Z
F-Term (15):
3L113AA01
, 3L113AB02
, 3L113AC03
, 3L113AC05
, 3L113AC08
, 3L113AC20
, 3L113AC56
, 3L113AC67
, 3L113AC83
, 3L113AC87
, 3L113BA01
, 3L113CA11
, 3L113CA12
, 3L113CB12
, 3L113CB24
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
都市ごみ乾燥設備並びにその運転制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-317589
Applicant:株式会社大川原製作所, 川崎製鉄株式会社, 株式会社アールエムジェイコンサルティング
-
溶剤回収スプレードライヤ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-166376
Applicant:アシザワ・スプレープラント株式会社
-
都市ゴミ乾燥設備における結露除去防止機構並びに結露除去防止方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-096213
Applicant:株式会社大川原製作所
Return to Previous Page