振動制御装置及びその制御方法、並びに、該振動制御装置を有する露光装置及び半導体デバイスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大塚康徳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002076755
Publication number (International publication number)：2003280744
Application date： Mar. 19, 2002
Publication date： Oct. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】制御対象に存在する弾性振動を抑えることにより、該制御対象を高精度に位置決めすること。【解決手段】微動ステージ100を駆動するリニアモータ46、49と、微動ステージ100の位置を測定するレーザ計測器51a、51bと、リニアモータ46、49が微動ステージ100上に駆動力を作用させる位置の近傍における振動を計測する加速度センサSと、レーザ計測器51a、51b及び加速度センサSの計測結果に基づいて、微動ステージ100の振動を低減しながら微動ステージ100を駆動するようにリニアモータ46、49を制御する補償器11a、11bとを備えることを特徴とする振動制御装置により、微動ステージ100の弾性振動を抑え、微動ステージ100を高精度に位置決めすることができる。

Claim (excerpt)：

制御対象を駆動する駆動器と、前記制御対象の位置を測定する位置計測器と、前記駆動器が前記制御対象に駆動力を作用させる位置の近傍における振動を計測する振動計測器と、前記位置計測器及び前記振動計測器の計測結果に基づいて、前記制御対象の振動を低減しながら前記制御対象を駆動するように前記駆動器を制御する補償器と、を備えることを特徴とする振動制御装置。

IPC (6)：

G05D 3/12 305 , F16F 15/02 , G01B 21/00 , G12B 5/00 , H01L 21/027 , H02P 7/00 101

FI (7)：

G05D 3/12 305 L , F16F 15/02 A , G01B 21/00 L , G12B 5/00 T , H02P 7/00 101 H , H01L 21/30 503 F , H01L 21/30 503 A

F-Term (62)：

2F069AA01 , 2F069BB15 , 2F069CC06 , 2F069DD09 , 2F069DD12 , 2F069EE03 , 2F069GG04 , 2F069GG07 , 2F069GG59 , 2F069HH09 , 2F069JJ15 , 2F069MM23 , 2F069MM34 , 2F069NN04 , 2F078CA02 , 2F078CA08 , 2F078CB05 , 2F078CB13 , 2F078CC07 , 2F078CC15 , 3J048AA07 , 3J048AB07 , 3J048AB11 , 3J048AD01 , 3J048CB21 , 3J048DA01 , 3J048EA13 , 5F046AA23 , 5F046BA03 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC03 , 5F046CC16 , 5F046DA06 , 5F046DA07 , 5F046DB05 , 5F046DC05 , 5F046DC12 , 5H303AA06 , 5H303BB03 , 5H303BB09 , 5H303BB14 , 5H303CC01 , 5H303DD04 , 5H303DD21 , 5H303FF03 , 5H303GG13 , 5H303HH01 , 5H303HH07 , 5H303JJ04 , 5H303KK02 , 5H303KK03 , 5H303KK04 , 5H540AA10 , 5H540BA03 , 5H540BB01 , 5H540BB06 , 5H540BB09 , 5H540EE05 , 5H540EE06 , 5H540FA14 , 5H540FC10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ステージ制御装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-239378 Applicant：キヤノン株式会社
ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-314717 Applicant：キヤノン株式会社
位置決め装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-002495 Applicant：キヤノン株式会社

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