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J-GLOBAL ID：200903052170108162

マイクロ波プラズマ処理装置、それに用いる誘電体窓部材および誘電体窓部材の製造方法

Inventor： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹 ,  後藤 哲也 ,  白井 泰雪 ,  北野 真史 ,  綿貫 耕平 ,  松岡 孝明 ,  村川 恵美
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  東京エレクトロン株式会社
Agent (2)： 池田 憲保 ,  福田 修一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008048063
Publication number (International publication number)：2009206341
Application date： Feb. 28, 2008
Publication date： Sep. 10, 2009
Summary：

【課題】プラズマ生成用ガスとして、Krを使用した場合にも、Ar等、他の希ガスを用いた場合と同様な特性の酸化膜、窒化膜しか得られないマイクロ波プラズマ処理装置が存在することが判明した。【解決手段】マイクロ波プラズマ処理装置を構成する誘電体窓部材をセラミック部材だけで構成するのではなく、当該セラミック部材の処理空間側の面上に、熱処理によって化学量論的にSiO2の組成を得ることができる平坦化塗布膜を塗布した後、熱処理することによって極めて平坦、且つ緻密な表面を有する平坦化塗布絶縁膜を形成する。当該平坦化塗布絶縁膜上に耐食性膜を形成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

マイクロ波を伝播させるアンテナと、前記アンテナを伝播したマイクロ波を透過する誘電体窓と、所定のガスを供給するガス供給部と、前記誘電体窓を透過したマイクロ波により前記所定のガスをプラズマ化して被処理体を処理する処理室と、を備えたマイクロ波プラズマ処理装置であって、 前記誘電体窓はセラミック部材からなり、 前記セラミック部材は、その処理室側の面が平滑化塗布絶縁膜に覆われている ことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/511

FI (4)：

H01L21/205 ,  H01L21/302 101D ,  C23C16/44 B ,  C23C16/511

F-Term (19)：

4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA04 ,  4K030FA04 ,  4K030KA46 ,  4K030LA15 ,  5F004BB14 ,  5F004BB30 ,  5F004DA00 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045EB03 ,  5F045EF05 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• プラズマ処理装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-030914   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 日本高周波株式会社
• プラズマ処理装置と方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-067835   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 国立大学法人東北大学

Cited by examiner (2)

• 耐食性部材およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-333901   Applicant：京セラ株式会社
• 特開平2-220433