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J-GLOBAL ID：200903048710632322

耐食性部材およびその製造方法

Inventor：
中原 正博

About 中原 正博

, 
早崎 哲治

About 早崎 哲治


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003333901
Publication number (International publication number)：2005097685
Application date： Sep. 25, 2003
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：
【課題】フッ素系、塩素系などのハロゲン系腐食ガス或いはそれらのプラズマに曝される部位に用いられる基材に耐食膜を形成した耐食性部材において、基材成分と耐食膜成分の反応生成物が耐食膜表面に存在するために、上記腐食ガス或いはそれらのプラズマと接触する表面積が増大する、あるいはそれら反応生成物の融点が低く蒸発してしまうために耐食性が低下する。 【解決手段】セラミックス、石英またはSiからなる基材表面に耐食膜を形成した耐食性部材で構成され、前記耐食膜の表面のX線回折における基材成分とY2O3耐食膜のY元素との反応生成物の最高結晶ピーク強度値とY2O3の最高結晶ピーク強度値の比が0.1以下とした耐食性部材を用いることによって半導体・液晶製造装置の内壁材(チャンバー)、マイクロ波導入窓、シャワーヘッド、フォーカスリング、シールドリング等を構成する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
セラミックス、石英またはSiからなる基材の表面に、Y2O3からなる耐食膜を形成してなる耐食性部材であって、耐食膜の表面のX線回折における、基材成分と耐食膜成分であるY元素との反応生成物の最高結晶ピークにおける強度値と、Y2O3の最高結晶ピークにおける強度値の比が0.1以下であることを特徴とする耐食性部材。
IPC (5)：
C23C30/00 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  C23C26/00 ,  H01L21/3065
FI (6)：
C23C30/00 C ,  C23C30/00 D ,  C04B41/87 B ,  C04B41/89 A ,  C23C26/00 C ,  H01L21/302 101B
F-Term (20)：
4K030KA46 ,  4K030KA47 ,  4K044AA12 ,  4K044AA13 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044BC02 ,  4K044CA02 ,  4K044CA12 ,  4K044CA13 ,  4K044CA24 ,  4K044CA29 ,  5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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