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J-GLOBAL ID：200903085421229890

天然ガスハイドレートの製造方法及び製造装置

Inventor： 岩崎 徹 ,  加藤 裕一
Applicant, Patent owner： 三井造船株式会社
Agent (1)： 石井 博樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004140103
Publication number (International publication number)：2005320454
Application date： May. 10, 2004
Publication date： Nov. 17, 2005
Summary：

【課題】原料天然ガスのガス組成と天然ガスハイドレートから得られるガス組成とが同一となる天然ガスハイドレートの製造方法及び製造装置を提供すること。【解決手段】天然ガスと水とをハイドレート生成領域内となる低温及び高圧の下で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、生成したガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程と、を有する天然ガスハイドレートの製造方法であって、前記減圧工程後に存在するガス成分を昇圧して前記ガスハイドレート生成工程に戻すこと。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

天然ガスと水とをハイドレート生成領域内となる低温及び高圧の下で反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程と、生成したガスハイドレートを氷点下に冷却して凍結する凍結工程と、凍結したガスハイドレートを貯蔵圧力まで減圧する減圧工程と、を有する天然ガスハイドレートの製造方法であって、 前記減圧工程後に存在するガス成分を昇圧して前記ガスハイドレート生成工程に戻すことを特徴とする天然ガスハイドレートの製造方法。

IPC (1)：

C10L3/06

FI (1)：

C10L3/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• ガスハイドレートの製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-247625   Applicant：三井造船株式会社, 東京瓦斯株式会社
• 天然ガスの包接水和物製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-129321   Applicant：石川島播磨重工業株式会社

Cited by examiner (4)

• 天然ガスハイドレートの生成方法および生成システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-127240   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレートの生成装置、製造装置および製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-163731   Applicant：三井造船株式会社
• ハイドレート製造方法及びその製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-247610   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• ハイドレートの減圧方法および減圧装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-099690   Applicant：三菱重工業株式会社