ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：高松猛 , 矢澤清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007052758
Publication number (International publication number)：2008096951
Application date： Mar. 02, 2007
Publication date： Apr. 24, 2008
Summary：

【課題】活性光線又は放射線、特に、KrFエキシマレーザー光、電子線あるいはEUV光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、良好なラインウィズスラフネス、及び良好な疎密依存性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。【化1】式(I)中、ARはアリール基を示す。Rnはアルキル基またはアリール基を示す。Aは水素原子またはアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキルオキシカルボニル基から選ばれる基を示す。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)一般式(I)で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (1)：

G03F 7/039

FI (1)：

G03F7/039 601

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

米国特許第5561194号明細書
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-344911 Applicant：ジェイエスアール株式会社
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-344910 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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Cited by examiner (4)

縮合環の芳香族環を含む保護基を有する感光性ポリマー及びこれを含むレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-299878 Applicant：三星電子株式会社
フォトレジスト単量体、フォトレジスト重合体、フォトレジスト重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-164543 Applicant：株式会社ハイニックスセミコンダクター
記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-173468 Applicant：株式会社東芝

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