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J-GLOBAL ID：200903057906937228

フェノール/脂環式コポリマーおよびフォトレジスト

Inventor： ジョージ・ジー・バークレー ,  アシシュ・パンディア ,  ワン・ユイー ,  アンソニー・ザンピニ ,  ゲーリー・ゲンフュイ・テン ,  ジビアオ・マオ
Applicant, Patent owner： シップレーカンパニー エル エル シー
Agent (1)： 千田 稔 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000309755
Publication number (International publication number)：2001194792
Application date： Oct. 10, 2000
Publication date： Jul. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅ポジ型レジストの成分として有用な新規なポリマーの提供。【解決手段】 光活性な成分、ならびに1)少なくとも約125立方オングストロームの分子容を有する第三エステル脂環式基を含み、全ポリマー単位に基づいて約1から50モル%の量で存在するフォト酸レイビルエステル基;および2)全ポリマー単位に基づいて約20から95モル%の量で存在するフェノール基の繰り返し単位を含むポリマーを含む樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

光活性な成分、ならびに1)少なくとも約125立方オングストロームの分子容を有する第三エステル脂環式基を含み、全ポリマー単位に基づいて約1から50モル%の量で存在するフォト酸レイビルエステル基;および2)全ポリマー単位に基づいて約20から95モル%の量で存在するフェノール基の繰り返し単位を含むポリマーを含む樹脂バインダー、を含むフォトレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/08 ,  C08L 33/10 ,  C08L101/08 ,  C07C 69/54

FI (6)：

G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/08 ,  C08L 33/10 ,  C08L101/08 ,  C07C 69/54 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-084729   Applicant：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-301558   Applicant：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-261054   Applicant：日本ゼオン株式会社
• レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-242053   Applicant：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-154908   Applicant：東京応化工業株式会社