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J-GLOBAL ID：200903001265675761

放射線感光材料及びパターン形成方法

Inventor：
武智 敏

About 武智 敏

, 
高橋 真

About 高橋 真

, 
開元 裕子

About 開元 裕子


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 北野 好人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994276597
Publication number (International publication number)：1995234511
Application date： Nov. 10, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：
【要約】【目的】本発明は、エキシマレーザを露光源とするリソグラフィにおいて使用する、優れた透明性及びエッチング耐性のみならず、高感度で、剥がれの少ない放射線感光材料及びその放射線感光材料を用いたパターン形成方法を提供する。【構成】メタクリル酸アダマンチルモノマとアクリル酸t-ブチルモノマとを1:1で仕込み、重合開始剤としてAIBNを添加して重合した後、メタノールで沈澱精製を行って得られた構造式【化261】の共重合体に、トリフェニルスルフォニウムヘキサフロロアンチモンを添加してシクロヘキサノン溶液とし、この溶液をウェーハ上に塗布し、KrFエキシマステッパで露光し、現像すると、閾値エネルギーEthは50mJ/cm<SP>2</SP>で、解像力は130mJ/cm<SP>2</SP>で0.45μm幅のL&Sを示した。
Claim (excerpt)：
一般式【化1】で示される共重合体と放射線照射により酸を生じる物質とからなることを特徴とする放射線感光材料。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027
FI (2)：
H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 561
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (35)
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Cited by examiner (35)
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