Pat
J-GLOBAL ID:200903052707039987
欠陥分析システム
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三品 岩男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000287081
Publication number (International publication number):2002090312
Application date: Sep. 21, 2000
Publication date: Mar. 27, 2002
Summary:
【要約】【課題】大量の被検査物から従来の知見では解決困難な新規な欠陥が発生している被検査物を効率的に選別することである。【解決手段】複数の被検査物において検出された欠陥の分析システムにおいて、被検査物における欠陥部位を検出する外観検査装置100を有する。また、前記欠陥部位における詳細情報を検出し、前記詳細情報に基づき、欠陥を、その出現を確認している既知欠陥と、その出現を確認していない新規欠陥とに分類する欠陥分類装置200を有する。さらに、被検査物の指定を受け付け、指定された被検査物を分析する欠陥分析装置300を有する。前記外観検査装置100、欠陥分類装置200、および欠陥分析装置300は、前記新規欠陥を含む分類毎の欠陥数を表示する表示装置を有することができる。
Claim (excerpt):
複数の被検査物において検出された欠陥の分析システムであって、前記被検査物における欠陥部位を検出する外観検査手段と、前記欠陥部位における詳細情報を検出する詳細情報検出手段と、前記詳細情報に基づき、欠陥を、その出現を確認している既知欠陥と、その出現を確認していない新規欠陥とに分類する欠陥分類手段と、前記新規欠陥を含む分類毎の欠陥数を表示する表示手段と、被検査物の指定を受け付け、指定された被検査物を分析する欠陥分析手段と、を有することを特徴とする欠陥分析システム。
IPC (8):
G01N 21/956
, G01N 1/28
, G01N 1/32
, G01N 33/00
, G01N 35/00
, G06T 1/00 305
, G06T 1/00
, H01L 21/66
FI (10):
G01N 21/956 A
, G01N 1/32 B
, G01N 33/00 A
, G01N 35/00 A
, G01N 35/00 Z
, G06T 1/00 305 A
, G06T 1/00 305 C
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 S
, G01N 1/28 G
F-Term (55):
2G051AA51
, 2G051AB07
, 2G051AC01
, 2G051CA03
, 2G051DA06
, 2G051EA04
, 2G051EA08
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051EB03
, 2G051EC01
, 2G051EC02
, 2G051EC06
, 2G051FA01
, 2G058AA02
, 2G058BA08
, 2G058GA01
, 2G058GA11
, 2G058GD05
, 2G058GD07
, 4M106AA01
, 4M106BA03
, 4M106BA10
, 4M106CA39
, 4M106CA41
, 4M106CA42
, 4M106CA43
, 4M106CA51
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB18
, 4M106DH31
, 4M106DH50
, 4M106DJ04
, 4M106DJ13
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
, 4M106DJ27
, 4M106DJ28
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC02
, 5B057CD02
, 5B057CE06
, 5B057DA03
, 5B057DA07
, 5B057DC03
, 5B057DC04
, 5B057DC33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
欠陥の分類方法およびその装置並びに教示用データ作成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-225083
Applicant:株式会社日立製作所
-
異物検査方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-179605
Applicant:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
-
特開平3-018708
-
半導体装置とそのマーク形成装置,その欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-031417
Applicant:株式会社日立製作所
-
ウエハ検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-127467
Applicant:株式会社日立製作所
-
欠陥解析方法、記録媒体及び工程管理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-248156
Applicant:三菱電機株式会社
-
表面異物検査装置及びそれを用いた表面異物分類方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-002395
Applicant:松下電器産業株式会社
-
欠陥検査方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-181056
Applicant:株式会社日立製作所
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