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J-GLOBAL ID：200903052810427456

酸発生剤及びレジスト組成物

Inventor：
山口 訓史

About 山口 訓史

, 
秋田 誠

About 秋田 誠

, 
吉田 勲

About 吉田 勲


Applicant, Patent owner：
住友化学株式会社

About 住友化学株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004211132
Publication number (International publication number)：2005097254
Application date： Jul. 20, 2004
Publication date： Apr. 14, 2005
Summary：
【課題】化学増幅型レジストに使用される新規な塩、及びこれと樹脂成分とを含有し、エキシマレーザーリソグラフィや電子線リソグラフィに適した、改善されたラインエッジラフネスを与え、かつパターンプロファイルの良好な化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(I)で示される塩。Q1〜Q5は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜16個のアルキル基、下式(I’)で示される基、等を表す。 -COOR (I’)(Rは、炭素数6〜12のアリール基、式(II’)又は式(II’’)を表す。(R1とR2は、互いに独立に、炭素数1〜12のアルキル、炭素数6〜12のアリール、等を表す。R1とR2とが結合して、単環又は多環を形成してもよい。R3とR4は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル、等を表す。R3とR4とが結合して、単環又は多環を形成してもよい。A+は、対イオンを表す。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下式(I)で示される塩。
IPC (7)：
C07C309/58 ,  C07C381/12 ,  C08F112/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (8)：
C07C309/58 ,  C07C381/12 ,  C08F112/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (31)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100DA01 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • ポジ型感光性組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-052006   Applicant：富士写真フイルム株式会社
Cited by examiner (4)
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