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J-GLOBAL ID:200903053085148801

ガス供給装置及びガス供給方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮川 貞二 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001226533
Publication number (International publication number):2003042421
Application date: Jul. 26, 2001
Publication date: Feb. 13, 2003
Summary:
【要約】【課題】 ガス利用装置に用いるのに十分な高発熱量のガスを被処理物から得ることができるガス供給装置及び方法、セメント焼成装置及び方法を提供する。【解決手段】 被処理物aを熱分解して可燃性ガスbとチャーh、fを生成するガス化室1と、ガス化室1で生成したチャー分hを燃焼して燃焼ガスeを生成するチャー燃焼室2と、ガス化室1で生成した可燃性ガスbをガス利用装置201に供給する第1のガス経路301と、チャー燃焼室2で生成した燃焼ガスeを、可燃性ガスbとは別々に、ガス利用装置201に供給する第2のガス経路302とを備えるガス供給装置。組成や温度が異なる可燃性ガスと燃焼ガスとを、ガス利用装置のそれぞれのガスに適した部分に別々に供給することができる。
Claim (excerpt):
被処理物を熱分解して可燃性ガスとチャーを生成するガス化室と;前記ガス化室で生成したチャー分を燃焼して燃焼ガスを生成するチャー燃焼室と;前記ガス化室で生成した可燃性ガスをガス利用装置に供給する第1のガス経路と;前記チャー燃焼室で生成した燃焼ガスを、前記可燃性ガスとは別々に、前記ガス利用装置に供給する第2のガス経路とを備える;ガス供給装置。
IPC (9):
F23G 5/30 ZAB ,  B01J 4/00 102 ,  B01J 7/00 ,  B09B 3/00 ,  B09B 3/00 302 ,  C10J 3/00 ,  C10J 3/02 ,  F23C 10/02 ,  F23G 5/027
FI (12):
F23G 5/30 ZAB C ,  B01J 4/00 102 ,  B01J 7/00 Z ,  B09B 3/00 302 C ,  B09B 3/00 302 G ,  C10J 3/00 H ,  C10J 3/00 K ,  C10J 3/02 M ,  F23G 5/027 B ,  B09B 3/00 303 H ,  B09B 3/00 303 M ,  F23C 11/02 311
F-Term (48):
3K061AA11 ,  3K061AB02 ,  3K061AC01 ,  3K061AC12 ,  3K061AC13 ,  3K061AC17 ,  3K061AC20 ,  3K061BA06 ,  3K061EA03 ,  3K061EB18 ,  3K064AA04 ,  3K064AB03 ,  3K064AC05 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AE01 ,  3K064AE04 ,  3K064AE18 ,  3K064AF01 ,  3K064AF02 ,  3K064AF08 ,  3K064BA03 ,  3K064BA05 ,  3K064BA07 ,  3K064BA09 ,  3K064BA13 ,  3K064BA15 ,  3K064BA19 ,  3K064BA22 ,  4D004AA03 ,  4D004AA04 ,  4D004AA07 ,  4D004AA11 ,  4D004AA28 ,  4D004AA46 ,  4D004AB06 ,  4D004AC05 ,  4D004BA03 ,  4D004BA06 ,  4D004CA24 ,  4D004CA27 ,  4D004CA47 ,  4D004CB34 ,  4D004CC11 ,  4G068AA01 ,  4G068AB02 ,  4G068AC01 ,  4G068AC13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (17)
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