散乱型近接場顕微鏡およびその測定方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：松下義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004272875
Publication number (International publication number)：2006090715
Application date： Sep. 21, 2004
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：

【課題】 XY面内とZ方向において、プローブ先端をサンプル表面に形成されたエバネッセント場のスポットの強度が最大の場所に正確かつ簡便に位置決めし、高い散乱効率が得られるような散乱型近接場顕微鏡の測定方法を提供する。【解決手段】プローブ2側に設けたXY微動機構14によりサンプル28表面に発生させたエバネッセント場のスポットを走査し、プローブ2で散乱された散乱光強度を測定することでスポットの強度分布を求め、エバネッセント場の強度が最大となる部分に、XY微動機構14によりプローブ2を位置決めする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

サンプル表面にエバネッセント場を発生させるエバネッセント場発生手段と、サンプル表面に近接または接触させて前記エバネッセント場を散乱させるプローブと、サンプル面内にXY軸をとりサンプル表面と垂直な方向をZ軸とした場合に、前記プローブとサンプル間の距離制御を行うためのZ微動機構と、前記プローブとサンプルを相対的にサンプル面内で移動させるXY微動機構と、前記プローブで散乱させた散乱光を集光するための散乱光集光手段と、散乱光の強度を測定する光検出器と、光検出器で検出された強度を表示する表示装置を少なくとも有する散乱型近接場顕微鏡を用いて、前記Z微動機構により前記プローブと前記サンプル表面間の距離を一定に保ちながら、前記プローブ側に設けた前記XY微動機構により前記サンプル表面に発生させたエバネッセント場を含む領域を前記プローブで走査する工程と、前記プローブで散乱された散乱光を前記散乱光集光手段で集光し、前記光検出器により散乱光強度を測定し、前記表示装置により散乱光強度を表示し、表示結果からエバネッセント場の強度分布を求める工程と、エバネッセント場の強度が最大となる部分に、前記XY微動機構によりプローブを位置決めする工程からなることを特徴とする、散乱型近接場顕微鏡の測定方法。

IPC (2)：

G01N 13/14 , G01B 11/00

FI (2)：

G01N13/14 A , G01B11/00 Z

F-Term (8)：

2F065AA03 , 2F065FF04 , 2F065HH01 , 2F065HH12 , 2F065MM03 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2F065QQ29

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

走査型近接場光顕微鏡を用いた試料測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-341301 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
走査型プローブ顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-141752 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
走査型光顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-068607 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Show all

Return to Previous Page