Pat
J-GLOBAL ID：200903053572831398

半導体集積回路

Inventor：
西尾 茂

About 西尾 茂

, 
大工 博

About 大工 博

, 
小久保 朝生

About 小久保 朝生


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002316078
Publication number (International publication number)：2004112737
Application date： Oct. 30, 2002
Publication date： Apr. 08, 2004
Summary：
【課題】本発明では、画質を劣化させることなく輪郭強調した画像を生成することが容易な輪郭強調処理方法及び輪郭強調処理を行う回路を提供することを目的とする。【解決手段】半導体集積回路は、イメージセンサからの画像信号に含まれる着目画素の画素値と周辺の画素の画素値との差分値を求める差分計算ユニットと、画素値について所定の範囲を設定する不感帯生成ユニットと、該差分値が該所定の範囲の外であるか否かを判断する比較処理ユニットを含み、該差分値が該所定の範囲の外であることを該比較処理ユニットが検出すると該検出に応じて該着目画素に輪郭強調処理を施すことを特徴とする。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
イメージセンサからの画像信号に含まれる着目画素の画素値と周辺の画素の画素値との差分値を求める差分計算ユニットと、 画素値について所定の範囲を設定する不感帯生成ユニットと、 該差分値が該所定の範囲の外であるか否かを判断する比較処理ユニット を含み、該差分値が該所定の範囲の外であることを該比較処理ユニットが検出すると該検出に応じて該着目画素に輪郭強調処理を施すことを特徴とする半導体集積回路。
IPC (2)：
H04N5/208 ,  H04N9/68
FI (2)：
H04N5/208 ,  H04N9/68 103Z
F-Term (14)：
5C021PA17 ,  5C021PA53 ,  5C021PA58 ,  5C021PA66 ,  5C021RA02 ,  5C021XB03 ,  5C066AA01 ,  5C066CA02 ,  5C066CA17 ,  5C066EC02 ,  5C066GA01 ,  5C066GA05 ,  5C066KA12 ,  5C066KD02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 画像処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-046728   Applicant：カシオ計算機株式会社
  • 映像信号処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-165996   Applicant：松下電器産業株式会社
  • エッジ強調装置、エッジ強調方法および記録媒体
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-105203   Applicant：カシオ計算機株式会社
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM