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J-GLOBAL ID:200903053830063244

排水処理方法および排水処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山崎 宏 ,  前田 厚司 ,  仲倉 幸典
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006160877
Publication number (International publication number):2007326075
Application date: Jun. 09, 2006
Publication date: Dec. 20, 2007
Summary:
【課題】排水中の窒素を微生物の作用によって除去するための排水処理方法であって、簡単な設備で、低コストで実施でき、しかも処理槽中の微生物濃度を直接的に制御でき、設備の調整や管理が容易な排水処理方法を提供すること。【解決手段】処理すべき被処理水90とマイクロナノバブル含有水を水槽22に導入して、水槽22で好気性微生物の作用によって硝化を行った後、水槽22で嫌気性微生物の作用によって脱窒を行う。【選択図】図1
Claim (excerpt):
処理すべき被処理水とマイクロナノバブル含有水とを1つの水槽に導入して、上記水槽で好気性微生物の作用によって硝化を行った後、上記水槽で嫌気性微生物の作用によって脱窒を行うことを特徴とする排水処理方法。
IPC (5):
C02F 3/34 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/20 ,  C02F 3/12
FI (8):
C02F3/34 101A ,  C02F3/34 101B ,  C02F3/34 101C ,  C02F3/34 101D ,  C02F3/10 Z ,  C02F3/06 ,  C02F3/20 Z ,  C02F3/12 S
F-Term (50):
4D003AA01 ,  4D003AB12 ,  4D003BA02 ,  4D003BA03 ,  4D003BA08 ,  4D003CA04 ,  4D003CA08 ,  4D003CA10 ,  4D003DA04 ,  4D003DA09 ,  4D003DA29 ,  4D003EA14 ,  4D003EA17 ,  4D003EA30 ,  4D003FA01 ,  4D003FA05 ,  4D003FA10 ,  4D028AA08 ,  4D028AB00 ,  4D028AC06 ,  4D028BB02 ,  4D028BB07 ,  4D028BC01 ,  4D028BC18 ,  4D028BC24 ,  4D028BC26 ,  4D028BC28 ,  4D028BD08 ,  4D028BD10 ,  4D028BD12 ,  4D028BD16 ,  4D028CA00 ,  4D028CA04 ,  4D028CA05 ,  4D028CC04 ,  4D028CC06 ,  4D028CD01 ,  4D029AA00 ,  4D029AB00 ,  4D029BB10 ,  4D029DD01 ,  4D029DD03 ,  4D040BB07 ,  4D040BB23 ,  4D040BB42 ,  4D040BB63 ,  4D040BB82 ,  4D040BB91 ,  4D040BB92 ,  4D040BB93
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • ナノバブルの利用方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-288963   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
  • ナノ気泡の生成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-145325   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
  • 廃液の処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-121082   Applicant:日立エンジニアリング株式会社
Cited by examiner (8)
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