レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：西川繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994303235
Publication number (International publication number)：1995181680
Application date： Nov. 11, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。パターン形状に優れたパターンを形成する方法を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平4-217251
特開平4-134345
特開平3-206458

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