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J-GLOBAL ID：200903054066689350

レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

Inventor： 尾家 正行 ,  阿部 信紀 ,  田中 秀行 ,  及川 朗 ,  宮田 修一
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994303235
Publication number (International publication number)：1995181680
Application date： Nov. 11, 1994
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】感度、解像度、耐エッチング性、保存安定性、及びプロセス余裕度などのレジスト特性に優れたレジスト材料を提供すること。パターン形状に優れたパターンを形成する方法を提供すること。【構成】(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線の照射により酸を生成可能な化合物、(B)酸に対して不安定な基を持つ構造単位を有し、かつ、化合物(A)に由来する酸の存在下に該基が開裂してアルカリ可溶性となる重合体、及び(C)フェノール化合物を含有するレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開平4-217251
  
• 特開平4-134345
  
• 特開平3-206458
  
• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-244794   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-079113   Applicant：株式会社東芝
• 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-150243   Applicant：株式会社東芝
• 特開平4-217251
  
• 特開平4-134345
  
• 特開平3-206458