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J-GLOBAL ID：200903050612417469

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
林 理生

About 林 理生

, 
大西 廉伸

About 大西 廉伸


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994150243
Publication number (International publication number)：1995146558
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： Jun. 06, 1995
Summary：
【要約】【目的】レジスト材料として好適に用いられる感光性組成物であって、短波長の光源に対して高感度、高解像性であり、且つ膜の状態で相分離を生じることなく、安定して微細なレジストパターンを得ることの可能な感光性組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性重合体のアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなる重合体と、光の照射により酸を発生する化合物と、イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、アデノシン化合物、4級アンモニウム塩、及び含窒素糖類化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であって、レジスト膜内の相溶性を高める化合物と、フェノール化合物とを含有する感光性組成物である。
Claim (excerpt)：
(a)アルカリ可溶性ポリマーのアルカリ可溶性基を酸に対して不安定な基によって保護してなるポリマー、(b)光の照射により酸を発生する化合物、及び(c)イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、アデノシン化合物、4級アンモニウム塩化合物、及び含窒素糖類化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物であって、レジスト膜内の相溶性を高める化合物を含有する感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
  • 特開平4-217251
  • 特開平3-206458
  • 特開平4-134345
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Cited by examiner (18)
  • 特開平4-217251
  • 特開平4-217251
  • 特開平3-206458
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