Pat
J-GLOBAL ID：200903031343598244

感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
林 理生

About 林 理生

, 
宮村 雅隆

About 宮村 雅隆

, 
大西 廉伸

About 大西 廉伸

, 
佐藤 一夫

About 佐藤 一夫

, 
千葉 謙治

About 千葉 謙治


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993079113
Publication number (International publication number)：1994266111
Application date： Mar. 12, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：
【要約】【目的】レジスト材料として好適に用いられる感光性組成物であって、短波長の光源に対して高感度、高解像性であり、且つ膜の状態で相分離を生じることなく、安定して微細なレジストパターンを得ることの可能な感光性組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性重合体のアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなる重合体と、露光により酸を発生する化合物と、イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、及びアデノシン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のアミン化合物と、フェノール化合物とを、必須成分として含有する感光性組成物。
Claim (excerpt)：
(a)アルカリ可溶性ポリマーのアルカリ可溶性基を、酸に対して不安定な基によって保護してなるポリマーと、(b)露光により酸を発生する化合物と、(c)イミダゾール化合物、アラニン化合物、アデニン化合物、及びアデノシン化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種のアミン化合物とを、必須成分として含有する感光性組成物。
IPC (4)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (15)
  • 特開平4-217251
  • 特開平3-206458
  • 特開平4-134345
Show all
Cited by examiner (20)
  • 特開平4-217251
  • 特開平3-206458
  • 特開平4-134345
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM