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J-GLOBAL ID：200903054086698216

水素製造装置

Inventor：
岡部 昌規

About 岡部 昌規

, 
中沢 孝治

About 中沢 孝治

, 
樽家 憲司

About 樽家 憲司


Applicant, Patent owner：
本田技研工業株式会社

About 本田技研工業株式会社


Agent (2)： 佐藤 辰彦 ,  千葉 剛宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004249913
Publication number (International publication number)：2006063419
Application date： Aug. 30, 2004
Publication date： Mar. 09, 2006
Summary：
【課題】カソード側が高圧になってもアノード給電体の変形を防止できる水素製造装置を提供する。【解決手段】固体高分子膜2の両側に設けられた給電体3,4と、セパレータ5,6とを備える。アノード側セパレータ6は、水素ガスの圧力に抗して形状を維持できる材料からなり、流体通路領域19bとフレーム領域20bとを備える。アノード給電体4は流体通路領域19bに対向する多孔質部材16と、フレーム領域20bに対向する非多孔質部材17とからなる。アノード給電体4は、チタン粉末が焼結されてなる多孔質部材16と、チタンからなる非多孔質部材17とからなり、多孔質部材16と非多孔質部材17との境界が平滑に接合されている。多孔質部材16と非多孔質部材17とが、圧入、電子ビーム溶接または拡散接合により接合されている。カソード給電体3は、カソード側セパレータ5の流体通路領域19aに対向する多孔質部材のみからなる。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
固体高分子膜と、該固体高分子膜のカソード側、アノード側両側に相対向して設けられた1対の給電体と、各給電体に積層されたセパレータと、各セパレータに設けられ各給電体が露出する流体通路とを備え、アノード側セパレータの流体通路に水を供給すると共に各給電体に通電することにより、アノード側セパレータの流体通路に供給された水を電気分解し、カソード側セパレータの流体通路に高圧の水素ガスを得る水素製造装置において、 該アノード側セパレータは、カソード側セパレータの流体通路に得られる水素ガスの圧力に抗して形状を維持できる材料からなり、該流体通路が設けられている流体通路領域と、該流体通路領域の外周側に設けられたフレーム領域とを備え、 アノード給電体は該固体高分子膜と該アノード側セパレータとに密着して配設されており、導電性粒子が焼結されてなり該流体通路領域に対向する領域を占める多孔質部材と、該フレーム領域に対向する領域を占めて該多孔質部材を取り囲み該多孔質部材の厚さと直交する方向への変形を規制する非多孔質部材とからなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (6)：
C25B 1/12 ,  C25B 9/04 ,  C25B 11/03 ,  C25B 11/10 ,  C25B 13/02 ,  C25B 9/00
FI (6)：
C25B1/12 ,  C25B9/04 302 ,  C25B11/03 ,  C25B11/10 Z ,  C25B13/02 302 ,  C25B9/00 B
F-Term (9)：
4K011AA11 ,  4K011AA21 ,  4K011BA07 ,  4K011CA04 ,  4K011DA01 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021DB40 ,  4K021DC03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (5)
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