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J-GLOBAL ID：200903054168894560

レーザ描画装置

Inventor：
水野 雄次

About 水野 雄次


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000274458
Publication number (International publication number)：2002082446
Application date： Sep. 11, 2000
Publication date： Mar. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 描画室内の雰囲気の温湿度を所定の範囲内に高精度に制御でき、描画精度を向上させることができるレーザ描画装置を提供する。【解決手段】 レーザ描画を受ける被描画物としての感光性フィルムFが収納された第1収納トレイ1と、この第1収納トレイ1から取り出された感光性フィルムFにレーザ光を走査して所定のパターンを描画する描画処理部2とを、外装カバー4で囲うようにして形成された描画室5を有するレーザ描画装置において、温湿度を所定の範囲内に制御した空気を描画室5内に供給する空調ユニット6を備える。
Claim (excerpt)：
レーザ描画を受ける被描画物が収納された収納部と、前記収納部から取り出された被描画物にレーザ光を走査して所定のパターンを描画する描画処理部とを、遮光壁で囲うようにして形成された描画室を有するレーザ描画装置において、温湿度を所定の範囲内に制御した空気を前記描画室内に供給する空調手段を備えていることを特徴とするレーザ描画装置。
IPC (4)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B44C 1/22 ,  B44C 5/08
FI (4)：
G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 501 ,  B44C 1/22 B ,  B44C 5/08 Z
F-Term (4)：
2H097BA02 ,  2H097BA04 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 露光装置の環境条件制御装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014420   Applicant：株式会社ニコン
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-225567   Applicant：株式会社リコー
  • 露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-135934   Applicant：株式会社荏原製作所

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