Pat
J-GLOBAL ID:200903054182669561
析出方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
南條 博道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004223115
Publication number (International publication number):2005059001
Application date: Jul. 30, 2004
Publication date: Mar. 10, 2005
Summary:
【課題】 種々の所望の物質を、三次元的に所定の位置で析出させる方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、析出物質を媒質内の所定の位置に析出する方法を提供し、該方法は、析出誘起物質の集合体を媒質内の所定の位置に保持した状態で、該析出誘起物質の周囲に析出物質を析出させる工程を含む。本発明はまた、析出物質を媒質内の所定の位置に析出する方法を提供し、該方法は、分散している析出誘起物質を、媒質内の所定の位置に集合させる工程、および集合した該析出誘起物質を該媒質内の該所定の位置に保持した状態で、該析出誘起物質の周囲に析出物質を析出させる工程を含む。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
析出誘起物質の集合体を媒質内の所定の位置に保持した状態で、該析出誘起物質の周囲に析出物質を析出させる工程を含む、析出物質を媒質内の所定の位置に析出する方法。
IPC (1):
FI (9):
B01D9/02 602E
, B01D9/02 601A
, B01D9/02 601B
, B01D9/02 601E
, B01D9/02 601L
, B01D9/02 604
, B01D9/02 608A
, B01D9/02 619Z
, B01D9/02 621
F-Term (5):
4C081AB04
, 4C081CF01
, 4C081CF03
, 4C081DA11
, 4C081DA12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (16)
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アパタイト構造体、及びアパタイトパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-104926
Applicant:八尾健, ティーアンドティーアソシエイツ有限会社
-
電界ケージ内において微小粒子を形成する方法およびそのための装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平7-522065
Applicant:フラウンホーファーゲゼルシャフトツールフェルデルングデァアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ
-
透明導電材の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-083366
Applicant:株式会社関西新技術研究所
-
光触媒材料とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-392804
Applicant:アンデス電気株式会社
-
特開平2-019495
-
微小物の3次元精密配列方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-281778
Applicant:科学技術庁金属材料技術研究所長
-
ゲルを用いた反応晶析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-042147
Applicant:日清製粉株式会社
-
ガラスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-132958
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
屈折率分布型光学素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-085030
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
光学素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-007751
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
晶析・分離装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-075974
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
晶析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-155975
Applicant:佐竹化学機械工業株式会社
-
水酸アパタイトの被膜の形成法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-194922
Applicant:工業技術院長
-
親水性コロイド層、その形成方法、クリーニングフィルム及びハロゲン化銀写真感光材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-229415
Applicant:コニカ株式会社
-
バルク媒質から物質を転移させる方法及び装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-500496
Applicant:トウンジェットコーポレイションピーティーワイ.エルティーディー.
-
リン酸カルシウム類からなるカプセルおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-277662
Applicant:クラスターテクノロジー株式会社, 株式会社ミレニアムゲートテクノロジー, 八尾健
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Cited by examiner (15)
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電界ケージ内において微小粒子を形成する方法およびそのための装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平7-522065
Applicant:フラウンホーファーゲゼルシャフトツールフェルデルングデァアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ
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透明導電材の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-083366
Applicant:株式会社関西新技術研究所
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-392804
Applicant:アンデス電気株式会社
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特開平2-019495
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Application number:特願平10-281778
Applicant:科学技術庁金属材料技術研究所長
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-042147
Applicant:日清製粉株式会社
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Application number:特願平5-132958
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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Application number:特願平9-007751
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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Application number:特願平9-075974
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-155975
Applicant:佐竹化学機械工業株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-194922
Applicant:工業技術院長
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Application number:特願平9-229415
Applicant:コニカ株式会社
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Application number:特願平8-500496
Applicant:トウンジェットコーポレイションピーティーワイ.エルティーディー.
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-277662
Applicant:クラスターテクノロジー株式会社, 株式会社ミレニアムゲートテクノロジー, 八尾健
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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