Pat
J-GLOBAL ID：200903054488237940

EUVリソグラフィ装置の除染をする方法および装置

Inventor：
ウベ・ベー・ハンム

About ウベ・ベー・ハンム


Applicant, Patent owner：
カール-ツァイス-シュティフトゥング・トレーディング・アズ・カール・ツァイス

About カール-ツァイス-シュティフトゥング・トレーディング・アズ・カール・ツァイス


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001375879
Publication number (International publication number)：2002261001
Application date： Dec. 10, 2001
Publication date： Sep. 13, 2002
Summary：
【要約】【課題】EUVリソグラフィ装置の除染をする方法および装置【解決手段】EUVリソグラフィ装置は内部に真空または不活性ガスを有しているものの、炭化水素および/またはその他の炭素化合物が装置内部に存在するのを完全に防止することはできない。こうした炭素化合物は光学部材の汚染につながり、それによって光学部材は反射性を失ってしまう。こうした事態に対処するため、EUVリソグラフィ装置の作動中、例えば水晶マイクロバランスによって継続的に汚染度を判定することが提案される。汚染度に依存して、リソグラフィ装置の内部に酸素が供給される。酸素は露光放射と結びついてリソグラフィ装置の作動中に汚染を再び分解する。EUVリソグラフィ装置はそのために少なくとも1つの測定装置(3)と、これと接続された管理・制御装置(4)とを備えており、管理・制御装置はさらに酸素供給部(5a)と接続されている。
Claim (excerpt)：
EUVリソグラフィ装置の除染をする方法であって、最新の汚染度を測定する第1の工程と、少なくとも1つの所定の閾値と汚染度を比較する第2の工程と、リソグラフィ装置への酸素供給量を適合化する第3の工程と、前記第1ないし第3の工程を反復する第4の工程とを具備し、すべての前記工程を露光動作中に実行する方法。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503
FI (4)：
G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 A
F-Term (13)：
2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CB02 ,  5F046DA01 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046DB14 ,  5F046DC08 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM