露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：丸島儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998023278
Publication number (International publication number)：1999224839
Application date： Feb. 04, 1998
Publication date： Aug. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】有機分子による光学素子の汚染問題を簡単かつ効果的に解決した露光装置を提供すること。【解決手段】エキシマレーザ等の紫外線あるいはX線の露光ビームを基板に照射して露光を行なう露光装置の光学素子をクリーニングする方法であって、該光学素子が置かれた空間に微量の酸素を含む不活性ガスを供給して、該露光ビームを照射することで該空間内にてオゾン生成させ、該発生したオゾンと該露光ビームの照射による光化学反応によって該光学部材に付着した有機化合物を除去する。

Claim (excerpt)：

露光ビームを生成する光源と、該露光ビームを基板に照射して露光を行なうための閉空間を有する光学系を備えた露光装置において、該光学系の閉空間に不活性ガスを供給する手段と、酸素もしくはクリーンエアを供給する手段を設け、該閉空間に不活性ガスと酸素を供給し得るようにしたことを設けたことをことを特徴とする露光装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/304 645

FI (7)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/304 645 Z , H01L 21/30 516 F , H01L 21/30 531 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-045796 Applicant：株式会社ニコン
特開平1-265513
特開昭61-051150

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