Pat
J-GLOBAL ID：200903054687221581

微小流路構成体およびその製造方法

Inventor：
小椋 直嗣

About 小椋 直嗣

, 
五十嵐 哲

About 五十嵐 哲


Applicant, Patent owner：
カシオ計算機株式会社

About カシオ計算機株式会社


Agent (1)： 花輪 義男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002071547
Publication number (International publication number)：2003265949
Application date： Mar. 15, 2002
Publication date： Sep. 24, 2003
Summary：
【要約】【課題】 例えば、流体化された混合物質を微小な流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する微小流路構成体(小型化学反応装置)において、流路内での反応速度を左右する触媒の量を比較的多くする。【解決手段】 小型のシリコン基板21の一面に形成された微小な流路22の内壁面にはアルミニウム膜23が形成されている。この場合、アルミニウム膜23を溶射法により形成すると、その厚さを比較的厚くすることができる。そして、アルミニウム膜23の表面には比較的厚めの多孔質の陽極酸化膜が形成され、この比較的厚めの多孔質の陽極酸化膜には比較的多めの触媒が付着されている。
Claim (excerpt)：
小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に溶射法により形成された金属膜の少なくとも表面側に形成された多孔質膜とを備えていることを特徴とする微小流路構成体。
IPC (9)：
B01J 19/00 321 ,  C01B 3/32 ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/18 ,  C25D 11/04 ,  C25D 11/04 305 ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06
FI (9)：
B01J 19/00 321 ,  C01B 3/32 A ,  C23C 4/08 ,  C23C 4/18 ,  C25D 11/04 E ,  C25D 11/04 305 ,  C25D 11/16 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06 G
F-Term (32)：
4G075AA24 ,  4G075BA06 ,  4G075BC10 ,  4G075BD05 ,  4G075BD16 ,  4G075BD26 ,  4G075CA02 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA13 ,  4G075EA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EE03 ,  4G075EE21 ,  4G075EE31 ,  4G075FA12 ,  4G075FB02 ,  4G140EA02 ,  4G140EA06 ,  4G140EB03 ,  4G140EB14 ,  4G140EB23 ,  4G140EB33 ,  4G140EB46 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031BA02 ,  4K031BA06 ,  4K031CB07 ,  4K031CB37 ,  4K031FA05 ,  5H027BA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM