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J-GLOBAL ID：200903019487108756

化学増幅型レジスト組成物

Inventor：
橋本 和彦

About 橋本 和彦

, 
宮 芳子

About 宮 芳子


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000198916
Publication number (International publication number)：2002014471
Application date： Jun. 30, 2000
Publication date： Jan. 18, 2002
Summary：
【要約】【課題】170nm以下の波長の光に対する透過率に優れ、特にF2エキシマレーザーリソグラフィに適したレジスト組成物を提供する。【解決手段】バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、R1は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキルを表し、R2は水素又は炭素数2〜5のアシル基を表す)で示される重合単位を有する化学増幅型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
バインダー樹脂及び感放射線化合物を含有し、該バインダー樹脂が、それ自身アルカリ可溶性であるか又は放射線照射後の該感放射線化合物の作用により化学変化を起こしてアルカリ可溶性となるものであって、下式(I)(式中、R1は少なくとも1個のフッ素原子を有する炭素数1〜12のフルオロアルキルを表し、R2は水素又は炭素数2〜5のアシル基を表す)で示される重合単位を有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
IPC (9)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 16/04 ,  C08F 18/02 ,  C08K 5/00 ,  C08L 29/02 ,  C08L 31/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027
FI (9)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 16/04 ,  C08F 18/02 ,  C08K 5/00 ,  C08L 29/02 ,  C08L 31/02 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (48)：
2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF02 ,  2H025BF09 ,  2H025BF11 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002BE021 ,  4J002BF021 ,  4J002BG051 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV176 ,  4J002EV196 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EZ006 ,  4J002GP03 ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AD02P ,  4J100AD07P ,  4J100AG04P ,  4J100AG33P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BB07P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (9)
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