基板処理装置及び基板処理方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：萩原康司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001234836
Publication number (International publication number)：2003045839
Application date： Aug. 02, 2001
Publication date： Feb. 14, 2003
Summary：

【要約】【課題】低速回転でも安定した処理が可能であるとともに,レジスト処理のスループットを向上させることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】異なる処理流体を供給する複数の供給手段61,62,63を基板Wの周辺部に沿って相対的に移動させて,基板Wを処理する基板処理装置において,複数の供給手段61,62,63を,基板Wの周辺から内側に向かう方向に並べて配置した。

Claim (excerpt)：

異なる処理流体を供給する複数の供給手段を基板の周辺部に沿って相対的に移動させて,基板を処理する基板処理装置であって,前記複数の供給手段を,基板の周辺から内側に向かう方向に並べて配置したことを特徴とする,基板処理装置。

IPC (12)：

H01L 21/304 643 , H01L 21/304 , H01L 21/304 645 , H01L 21/304 648 , B05C 9/12 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 , B05D 3/00 , B05D 3/10 , B08B 3/02 , H01L 21/306

FI (13)：

H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 643 C , H01L 21/304 645 A , H01L 21/304 648 G , B05C 9/12 , B05C 11/08 , B05C 11/10 , B05D 1/40 A , B05D 3/00 B , B05D 3/10 F , B08B 3/02 B , H01L 21/306 R , H01L 21/306 J

F-Term (48)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB22 , 3B201BB24 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CC01 , 3B201CC12 , 3B201CC13 , 4D075AC59 , 4D075AC60 , 4D075AC64 , 4D075AC79 , 4D075AC84 , 4D075AC86 , 4D075AC88 , 4D075AC93 , 4D075BB14Y , 4D075BB65Z , 4D075CA47 , 4D075DA06 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EA05 , 4D075EA60 , 4D075EB01 , 4F042AA07 , 4F042BA08 , 4F042DD32 , 4F042DD38 , 4F042DE03 , 4F042DF09 , 4F042DF28 , 4F042DF32 , 4F042EB05 , 4F042EB06 , 4F042EB09 , 4F042EB18 , 4F042EB24 , 4F042EB28 , 4F042ED05 , 5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

基板端縁処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-269990 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-030511 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
基板端縁洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-019587 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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