液体有機原料の気化方法及び絶縁膜の成長方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：後藤洋介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000119023
Publication number (International publication number)：2001308082
Application date： Apr. 20, 2000
Publication date： Nov. 02, 2001
Summary：

【要約】【課題】有機モノマーを飽和蒸気圧の大きい高温で効率良く気化させるとともに得られた有機モノマーガスのプラズマ重合反応により有機高分子膜を高真空中で高速成長する。【解決手段】液体ジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテン(DVS-BCB)モノマーをキャリアガスと混合した後、高温に保持された減圧気化室に噴霧して有機モノマーの液体微粒子からなるエアロゾルを形成し、該エアロゾルを介してBCBモノマー(有機モノマー)を瞬時に気化させてBCBモノマーガス(有機モノマーガス)を発生させる。これによって、比表面積の大きいエアロゾルは気化面積が大きく、高温加熱しても重合反応が生じる前に気化が生じるため、飽和蒸気圧の大きい200°Cでの0.1g/min以上のBCBモノマーガスが可能となり、プラズマ重合BCB膜を従来の5倍以上の高速成膜が可能となる。

Claim (excerpt)：

有機高分子絶縁膜を形成し得る有機モノマー又は有機オリゴマーからなる液体有機原料を気化制御器に供給して気化させる方法において、前記液体有機原料の熱重合反応開始温度よりも低い温度でキャリアガスと混合して気液混合流体を形成する第1のステップと、該気液混合流体を気化減圧室に噴霧して前記液体有機原料のエアロゾルを形成して加熱する第2のステップと、前記エアロゾルを介して前記液体有機原料を気化させる第3のステップとを有することを特徴とする液体有機原料の気化方法。

IPC (5)：

H01L 21/31 , C23C 14/12 , C23C 16/448 , H01L 21/312 , B05D 3/12

FI (5)：

H01L 21/31 A , C23C 14/12 , C23C 16/448 , H01L 21/312 A , B05D 3/12 A

F-Term (39)：

4D075BB23X , 4D075BB36Y , 4D075BB56Y , 4D075BB85Y , 4D075CA23 , 4D075DC22 , 4K029BA62 , 4K029BD01 , 4K029CA12 , 4K029DA04 , 4K030AA09 , 4K030AA16 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030EA01 , 4K030JA09 , 4K030JA10 , 4K030LA02 , 5F045AA08 , 5F045AB39 , 5F045AC17 , 5F045AD05 , 5F045AD06 , 5F045AD07 , 5F045AD08 , 5F045AE21 , 5F045AE23 , 5F045BB09 , 5F045CB05 , 5F045EB06 , 5F045EC09 , 5F045EE02 , 5F045EE04 , 5F045EF05 , 5F045EH05 , 5F058AA10 , 5F058AC10 , 5F058AF02 , 5F058AH02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-008330
高分子膜の成長方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-170016 Applicant：日本電気株式会社, 日本エー・エス・エム株式会社
半導体装置の製造方法及び化学気相成長装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-024073 Applicant：株式会社東芝

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