機能水製造方法及び装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：赤塚賢次 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202840
Publication number (International publication number)：2001025715
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】半導体装置、光・磁気記憶媒体等の洗浄に使用される極めて高い清浄度を有する水素溶解水の製造方法及び洗浄装置を提供すること。【解決手段】純水又は超純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を得、次いで該水素溶解水をアニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつで処理する機能水製造方法及び超純水製造装置、水素溶解水製造装置、アニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつの膜及び電子部品部材洗浄機をこの順序で連接してなる洗浄装置。

Claim (excerpt)：

純水又は超純水に水素ガスを溶解して水素溶解水を得、次いで該水素溶解水をアニオン吸着膜、カチオン吸着膜及びキレート膜の少なくともひとつで処理することを特徴とする機能水製造方法。

IPC (3)：

B08B 3/04 , B08B 3/12 , H01L 21/304 648

FI (3)：

B08B 3/04 Z , B08B 3/12 A , H01L 21/304 648 K

F-Term (7)：

3B201AA03 , 3B201BB85 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CA01 , 3B201CC01 , 3B201CC21

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

水素含有超純水の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-252847 Applicant：栗田工業株式会社
半導体基板の洗浄方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-217558 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
洗浄液の製造方法およびそのための装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-166695 Applicant：株式会社フロンテック, 大見忠弘, オルガノ株式会社

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