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J-GLOBAL ID：200903090087278284

洗浄液の製造方法およびそのための装置

Inventor： 三森 健一 ,  呉 義烈 ,  笠間 泰彦 ,  大見 忠弘 ,  今岡 孝之
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘 ,  オルガノ株式会社
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998166695
Publication number (International publication number)：1999071600
Application date： Jun. 15, 1998
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高濃度のガス溶解洗浄液を短時間で製造する。【解決手段】 電気分解用純水源21からの純水を加圧ポンプ20で、電気分解装置2に供給しここで電気分解し、オゾンガスと水素ガスを得る。加圧ポンプ20を用いているため、これらのガスの圧力は大気圧以上である。大気圧以上の圧力のオゾンガス及び水素ガスは、それぞれ溶解装置6、7に供給され、ここで超純水供給装置4から供給される超純水に溶解され、オゾン水及び水素水が得られる。これらオゾン水及び水素水はそれぞれ混合装置8、9に供給され、ここでpHが調整される。

Claim (excerpt)：

電子部品等の被洗浄物の洗浄液の製造方法において、酸化性ガス、還元性ガス、不活性ガス、酸化性ガスと不活性ガスとの混合ガスまたは還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスのいずれかのガスを、純水に前記ガスの供給圧力を大気圧を超えて制御しながら溶解させることを特徴とする洗浄液の製造方法。

IPC (5)：

C11D 11/00 ,  B01F 1/00 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/04 ,  C11D 17/08

FI (5)：

C11D 11/00 ,  B01F 1/00 A ,  B08B 3/08 A ,  C11D 7/04 ,  C11D 17/08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• 半導体ウエーハの洗浄液及びこれを用いた半導体ウエーハの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-179239   Applicant：住友シチックス株式会社
• 半導体ウェーハの洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-257032   Applicant：信越半導体株式会社
• 洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-140014   Applicant：栗田工業株式会社, 日本電気株式会社
• 精密部品の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-329257   Applicant：島田理化工業株式会社
• 気体溶解装置および気体溶解方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-223179   Applicant：大日本インキ化学工業株式会社
• 気液溶解混合装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-141182   Applicant：和泉電気株式会社
• 液状物への不活性ガス溶解装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-174474   Applicant：有限会社ヤマヱ
• 特開平1-211926
  
• 金属配線の作製方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149513   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
• 精密洗浄方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-323334   Applicant：島田理化工業株式会社
• 洗浄装置および洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-236028   Applicant：株式会社豊田中央研究所
• 電子材料用洗浄水、その製造方法及び電子材料の洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-197782   Applicant：栗田工業株式会社
• 水素含有超純水の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-252847   Applicant：栗田工業株式会社
• ガス溶解洗浄水の改質方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-356361   Applicant：栗田工業株式会社