透光性電磁波シールド膜およびその製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人特許事務所サイクス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003430096
Publication number (International publication number)：2004221565
Application date： Dec. 25, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

【課題】高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有し且つ、モアレなどの点でもPDP画質劣化が非常に小さい電磁波シールド材料を提供すること。【解決手段】支持体と該支持体上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜を有するPDP用透光性電磁波シールド膜であって、メッシュを構成する線の線幅が3〜18μmであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が2.0以下であることを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

支持体と該支持体上に形成されたメッシュ状の導電性金属薄膜を有する透光性電磁波シールド膜であって、メッシュを構成する線の線幅が3〜18μmであり、かつ、メッシュを構成する線の交点における交点太り率が2.0以下であることを特徴とする、透光性電磁波シールド膜。

IPC (1)：

H05K9/00

FI (1)：

H05K9/00 V

F-Term (4)：

5E321AA04 , 5E321BB23 , 5E321GG05 , 5E321GH01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

電磁波シールド材料の製造方法、その方法によって得られる磁波シールド材料、並びにこれを用いた電磁波遮蔽構成体及び電磁波シールドディスプレイ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-235076 Applicant：日立化成工業株式会社
電磁波シールド性接着フィルムおよび該接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-149233 Applicant：日立化成工業株式会社
電磁波遮蔽板およびその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-193405 Applicant：大日本印刷株式会社

Cited by examiner (8)

透明導電膜およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-348162 Applicant：住友大阪セメント株式会社
ディスプレイ用フィルタの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-128255 Applicant：三井化学株式会社
電磁波シールド材の製造方法、並びにパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-015651 Applicant：大日本印刷株式会社

Show all

Return to Previous Page