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J-GLOBAL ID：200903055606762369

非晶質炭素被膜の形成装置及び形成方法

Inventor： 入江 美紀 ,  内海 慶春
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 鎌田 文二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001273287
Publication number (International publication number)：2003082458
Application date： Sep. 10, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：

【要約】【課題】 基材に対する密着性に優れ、かつ表面平滑性にも優れた低摩擦係数の非晶質炭素被膜を容易に形成可能となす。【解決手段】 複数の陰極アーク式蒸発源13、16と、複数のスパッタ蒸発源14、15をひとつの真空槽10に備えさせ、陰極アーク式蒸発源13による基材28への金属イオン照射後に、スパッタ蒸発源15や陰極アーク式蒸発源16を用いて非晶質炭素被膜の析出を行えるようにした。また、その被膜と基材28との間にスパッタ蒸発源14を用いて特定の金属や化合物の中間層を形成したり、非晶質炭素被膜中に潤滑雰囲気下での摩擦係数低減に有効な金属を添加することも可能ならしめた。

Claim (excerpt)：

少なくとも2基の陰極アーク式蒸発源と、非晶質炭素被膜を形成する真空槽内の基材に負のバイアスを印加するための電源と、少なくとも2基のスパッタ蒸発源を備え、陰極アーク式蒸発源の少なくとも1基に固体カーボンを原料としてセットし、陰極アーク式蒸発源の他の少なくとも1基に周期律表第IVa 、Va、VIa 、IIIb族から選ばれた少なくとも一種の金属原料をセットし、スパッタ蒸発源の少なくとも1基に固体カーボンを原料としてセットし、スパッタ蒸発源の他の少なくとも1基に周期律表第IVa 、Va、VIa 、IIIb族から選ばれた少なくとも一種の金属を設置して構成される非晶質炭素被膜の形成装置。

IPC (3)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/06

FI (3)：

C23C 14/34 N ,  C23C 14/02 Z ,  C23C 14/06 F

F-Term (15)：

4K029AA02 ,  4K029BA34 ,  4K029BB02 ,  4K029BB10 ,  4K029BC02 ,  4K029BD04 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K029DC05 ,  4K029DC16 ,  4K029DD06 ,  4K029FA07 ,  4K029JA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 硬質材料の被覆方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-039763   Applicant：ハウツァーホールディングベーファウ
• 水素化炭素薄膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-012352   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 非晶質炭素被覆部材の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-005282   Applicant：住友電気工業株式会社