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J-GLOBAL ID:200903019611587188

非晶質炭素被覆部材の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 上代 哲司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000005282
Publication number (International publication number):2001192206
Application date: Jan. 05, 2000
Publication date: Jul. 17, 2001
Summary:
【要約】【課題】 非晶質炭素被覆部材において、基材にArイオンをエッチングした後に非晶質炭素膜を基材上に被覆する方法ではエッチング効果が低く、中間層を基材と非晶質炭素膜の間に形成する方法でも、機械部品や、切削工具、金型に対して実用可能な密着性が得られないという問題を有していた。【解決手段】 基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面にKr、Xe、CH4、C2H2、C2H4、C6H6、CF4から選択される1種以上のガスを少なくとも含む雰囲気ガスによるガスイオン、あるいは周期律表第IIIa、IVa、Va、VIa、IIIb、IVb族元素から選択される1種以上の元素イオン、あるいはガスイオンと元素イオンを複数組み合わせて照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆する。
Claim (excerpt):
基材上に非晶質炭素膜を被覆する非晶質炭素被覆部材の製造方法であって、前記基材に負のバイアス電圧を印加することにより、基材表面にKr、Xe、CH4、C2H2、C2H4、C6H6、CF4から選択される1種以上のガスを含む雰囲気ガスによるガスイオンを照射した後、基材上に非晶質炭素膜を被覆することを特徴とする非晶質炭素被覆部材の製造方法。
IPC (3):
C01B 31/02 101 ,  C23C 14/06 ,  C23C 16/27
FI (3):
C01B 31/02 101 Z ,  C23C 14/06 F ,  C23C 16/27
F-Term (32):
4G046CA01 ,  4G046CA02 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4K029AA02 ,  4K029BA26 ,  4K029BA34 ,  4K029BB01 ,  4K029BB10 ,  4K029BC02 ,  4K029BD03 ,  4K029BD04 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K030AA04 ,  4K030AA09 ,  4K030AA24 ,  4K030BA27 ,  4K030BA55 ,  4K030BA56 ,  4K030BA57 ,  4K030BA58 ,  4K030CA02 ,  4K030CA03 ,  4K030CA05 ,  4K030CA12 ,  4K030DA04 ,  4K030FA01 ,  4K030HA04 ,  4K030LA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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