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J-GLOBAL ID：200903055944877953

プラズマ装置

Inventor：
石井 信雄

About 石井 信雄


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000384956
Publication number (International publication number)：2002184599
Application date： Dec. 19, 2000
Publication date： Jun. 28, 2002
Summary：
【要約】【課題】 プラズマ生成の際の電力効率を向上させる。【解決手段】 処理容器11内に電磁界を供給するアンテナ30は、共振器を構成する導体板32と、この導体板32に対向配置された地板31と、導体板32に接続された複数の給電線41A,41Bとを備えている。給電線41A,41Bは、導体板32の外周と直交する直線上に互いに離間して接続されている。ここで、導体板32と地板31との間における電磁界の波長がλg であるとき、給電線41A,41Bが接続される直線の長さは、略(N+1/2)×λg (Nは0以上の整数)である。
Claim (excerpt)：
気密な処理容器内に配置され被処理体を置く載置台と、この載置台に対向配置され前記処理容器内に高周波を供給するアンテナとを備えたプラズマ装置において、前記アンテナは、前記載置台に対向配置された導体板と、この導体板からみて前記載置台と反対側に対向配置された地板と、前記導体板に接続された複数の第1の給電線とを備え、前記第1の給電線のそれぞれは、前記導体板の外周と直交する前記導体板上の少なくとも1本の第1の直線上に2本ずつ互いに離間して接続され、前記第1の直線のそれぞれの長さは、前記導体板と前記地板との間における電磁界の波長がλg であるとき、略(N+1/2)×λg (Nは0以上の整数)であることを特徴とするプラズマ装置。
IPC (6)：
H05H 1/46 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/32
FI (6)：
H05H 1/46 M ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  H01J 27/16 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/32
F-Term (19)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC06 ,  4G075EC30 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5C030DD01 ,  5C030DE10 ,  5C030DG07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • プラズマ処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-263153   Applicant：株式会社日立製作所
  • 表面処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-156968   Applicant：アネルバ株式会社
  • プラズマ化学蒸着装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-149230   Applicant：三菱重工業株式会社
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