化学増幅型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996235247
Publication number (International publication number)：1998078658
Application date： Sep. 05, 1996
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】透明性及びドライエッチング耐性の両面に優れた化学増幅型レジストを提供すること。【解決手段】酸感応性化合物が、その分子中に脂環式炭化水素基を含む重合体又は共重合体であり、そして酸発生剤が、次式(I)により表される化合物:【化1】(上式において、R1 及びR2 は、それぞれ独立していて、同一もしくは異なっていてもよく、置換もしくは非置換のアルキル基を表すかもしくは、窒素原子と組合わさって、単環もしくは縮合の環系を完成しており、そしてXはハロゲンを表すかもしくはF,BF4 ,BF6 ,PF6 ,AsF6 ,SbF6 ,CF3 SO3 ,ClO4 又は有機スルホン酸アニオンを表す)であるように、構成する。

Claim (excerpt)：

保護されたアルカリ可溶性基を有しかつその保護基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを組み合わせて含む化学増幅型レジスト組成物において、前記酸感応性化合物が、その分子中に脂環式炭化水素基を含む重合体又は共重合体であり、そして前記酸発生剤が、次式(I)により表される化合物:【化1】(上式において、R1 及びR2 は、それぞれ独立していて、同一もしくは異なっていてもよく、置換もしくは非置換のアルキル基を表すかもしくは、窒素原子と組合わさって、1つの環状構造を完成しており、そしてXはハロゲンを表すかもしくはF,BF4 ,BF6 ,PF6 ,AsF6 ,SbF6 ,CF3 SO3 ,ClO4 又は有機スルホン酸アニオンを表す)であることを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 501 , G03F 7/40 501 , H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/38 501 , G03F 7/40 501 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 566 , H01L 21/30 571

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

放射線感光材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-276597 Applicant：富士通株式会社
感光性樹脂組成物およびパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-334643 Applicant：日本電気株式会社
ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-280695 Applicant：日本電気株式会社

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Cited by examiner (4)

放射線感光材料及びパターン形成方法
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ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-280695 Applicant：日本電気株式会社

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