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J-GLOBAL ID：200903056069283935

構造体の製造方法

Inventor：
西川 昭

About 西川 昭

, 
下村 宏臣

About 下村 宏臣


Applicant, Patent owner：
ジェイエスアール株式会社

About ジェイエスアール株式会社


Agent (1)： 渡辺 喜平 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000314528
Publication number (International publication number)：2002120346
Application date： Oct. 13, 2000
Publication date： Apr. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】 耐擦傷性や透明性に優れた構造体の製造方法を提供する。【解決手段】表面側の第1層と、これに下方で接する第2層とを含む構造体において、表面粗さR2(JIS B0601に準拠のRz)が0.01〜2μmの第2層を形成する工程と、表面粗さR1(JIS B0601に準拠のRz)が2μm以下であって、膜厚をD1としたときに、R1/D1の比率が0.01〜2である第1層を形成する工程(ただし、R1≦R2)とを含む。
Claim (excerpt)：
表面側の第1層と、これに下方で接する第2層とを含む構造体の製造方法において、第2層を形成する工程と、表面粗さR1(JIS B0601に準拠のRz)が2μm以下であって、膜厚をD1としたときに、R1/D1の比率が0.01〜2である第1層を形成する工程と、を含むことを特徴とする構造体の製造方法。
IPC (5)：
B32B 31/00 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  H01J 5/16
FI (5)：
B32B 31/00 ,  B32B 7/02 103 ,  H01J 5/16 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
F-Term (54)：
2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009AA15 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009EE03 ,  2K009EE05 ,  4F100AA19B ,  4F100AA25B ,  4F100AA28B ,  4F100AA29B ,  4F100AA33B ,  4F100AK17 ,  4F100AK25 ,  4F100AK41 ,  4F100AR00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA26 ,  4F100CC00C ,  4F100DA01 ,  4F100DD07A ,  4F100DE01B ,  4F100EH46 ,  4F100EH46B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ08A ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ64B ,  4F100GB16 ,  4F100GB41 ,  4F100JA20A ,  4F100JB06 ,  4F100JB13A ,  4F100JB14B ,  4F100JG03 ,  4F100JK12C ,  4F100JK14 ,  4F100JL06 ,  4F100JN01 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18A ,  4F100JN18B ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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