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J-GLOBAL ID：200903056523315324

露光装置、基板処理装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法

Inventor：
藤田 浩裕

About 藤田 浩裕


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 立石 篤司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001148056
Publication number (International publication number)：2002075853
Application date： May. 17, 2001
Publication date： Mar. 15, 2002
Summary：
【要約】【課題】 一連の基板の処理におけるスループットの向上を図る。【解決手段】露光装置10と基板処理装置50とは、インラインI/F部を介して接続されている。また、露光装置10側の制御装置34と基板処理装置50側の制御装置62との間で、基板の搬送に関する情報がやり取りされ、両装置では、相手方装置からの情報に基づいて処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する次の動作を、該動作の開始に先立って決定する。このため、基板処理装置及び露光装置で行われる一連の基板の処理におけるスループットの向上が可能となり、結果的にデバイスの生産性の向上を図ることが可能になる。この場合において、例えば、双方の装置間で、基板を受取り可能あるいは送り出し可能となるまでの予測時間若しくは予定時間の情報を相互に通知する。
Claim (excerpt)：
基板処理装置とインラインにて接続される露光装置であって、基板を搬送するとともに前記基板処理装置との間で受け渡し部を介して基板の受け渡しを行う基板搬送系と;前記基板搬送系を制御する制御系を構成し、前記基板処理装置との間で、処理能力の向上に寄与する基板の搬送に関する動作の決定のための特定情報の送信及び受信の少なくとも一方を事前に行う制御装置と;を備える露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (5)：
G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 562
F-Term (12)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA12 ,  5F031PA03 ,  5F031PA04 ,  5F046AA17 ,  5F046CD05 ,  5F046DA29 ,  5F046DA30 ,  5F046JA22 ,  5F046LA11 ,  5F046LA18
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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