指紋検出装置、その製造方法及び成膜装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山口邦夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001250607
Publication number (International publication number)：2003058872
Application date： Aug. 21, 2001
Publication date： Feb. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】保護用の蓋体に依存することなく、指紋センサチップの表面強度及び静電耐圧を向上できるようにする。【解決手段】指紋センサチップ10と、この指紋センサチップ10の最外表面に設けられたDLC膜14とを備えるものである。この構成によって、DLC膜14が指紋センサチップ10の最外表面に設けられる。従って、保護用の蓋体に依存することなく、指紋センサチップ10の表面強度及び静電耐圧を向上させることができる。しかも、傷や汚れ等がつき難くなる。従来方式のような保護用の蓋体が不要となることから、当該指紋検出装置100を薄膜化及び小型化することができる。これにより、信頼性の高い指紋検出装置100を提供することができる。

Claim (excerpt)：

指紋検出用の半導体チップと、前記半導体チップの最外表面に設けられた炭素系の保護膜とを備えることを特徴とする指紋検出装置。

IPC (3)：

G06T 1/00 400 , C23C 16/27 , G01B 7/28

FI (3)：

G06T 1/00 400 G , C23C 16/27 , G01B 7/28 H

F-Term (15)：

2F063AA41 , 2F063BA30 , 2F063CA18 , 2F063DA02 , 2F063DD07 , 2F063HA04 , 4K030AA09 , 4K030AA17 , 4K030AA18 , 4K030BA24 , 4K030BA28 , 4K030CA04 , 4K030FA03 , 4K030LA11 , 5B047AA25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

変位測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-285247 Applicant：株式会社ミツトヨ
被膜作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-372446 Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
特開平3-274269

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