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J-GLOBAL ID:200903091052884420
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997074718
Publication number (International publication number):1998254140
Application date: Mar. 12, 1997
Publication date: Sep. 25, 1998
Summary:
【要約】【課題】 化学増幅型レジストとして、特にコンタクトホールの解像度が優れ、しかも放射線に対する透明性、ドライエッチング耐性、パターン形状、感度、解像度等にも優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、(A)主鎖および/または側鎖に脂環式骨格を有する樹脂、(B1)波長100〜300nmの放射線に対する透過率が60%/μm以上である樹脂または(B2)下記一般式(1)で表される分子量1,000以下の化合物、並びに(C)感放射線性酸発生剤を含有し、かつ成分(A)と成分(B1)または(B2)との少なくとも一方が酸開裂性基を含有する。【化1】〔式中、R1 およびR2 は水素原子または酸開裂性基、Zは環構成炭素原子の合計数が7〜25の環状炭化水素構造を有する基を示し、0≦a≦6、0≦b≦6、1≦(a+b)を満たす。〕
Claim (excerpt):
(A)主鎖および/または側鎖に脂環式骨格を有する樹脂、(B1)フィルムとして100〜300nmの波長範囲内の放射線に対する透過率が60%/μm以上である樹脂、および(C)放射線の照射により酸を発生する感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、前記成分(A)と成分(B1)の少なくとも一方が酸開裂性基を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
IPC (5):
G03F 7/039 601
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, C08L 65/00
, H01L 21/027
FI (5):
G03F 7/039 601
, C08L 35/00
, C08L 45/00
, C08L 65/00
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-164838
Applicant:日本電気株式会社
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遠紫外線露光用フォトレジスト組成物およびその使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-128606
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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感光性材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-185046
Applicant:株式会社東芝
-
デバイス製造のためのパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-049956
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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