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J-GLOBAL ID:200903057159057671

低干渉光干渉計測法による層状微細構造の計測装置及び計測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田治米 登 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996327916
Publication number (International publication number):1998153550
Application date: Nov. 22, 1996
Publication date: Jun. 09, 1998
Summary:
【要約】【課題】 OCM計測において、皮膚のように表面が不均一で非平滑である試料に対しても正確な観測データを得られるようにする。また、試料の層状微細構造の経時的変化の追跡や3次元的解析も可能とする。【解決手段】 低干渉光干渉計測法の計測装置1において、試料Sに低コヒーレンス光を入射させるプローブ5の先端部を、外装3Yのない心線3X状の光ファイバー3から構成し、プローブ5と試料Sとの密着性を向上させる。また、計測装置1には、Z軸方向に移動可能な試料台41を設け、プローブ5はx軸、y軸及びZ軸方向に移動可能なアーム42に取り付ける。プローブ5には測定部位の拡大像を撮る撮像装置20を一体化させることが好ましい。
Claim (excerpt):
低コヒーレンス光を試料及び参照鏡にそれぞれ入射させ、試料からの反射光又は散乱光と、参照鏡からの反射光又は散乱光との干渉信号を計測する低干渉光干渉計測法により試料の層状微細構造を計測する装置であって、試料に低コヒーレンス光を入射させるプローブが光ファイバーからなり、該プローブの先端部において光ファイバーは外装のない心線になっていることを特徴とする計測装置。
IPC (2):
G01N 21/45 ,  G01B 11/24
FI (2):
G01N 21/45 A ,  G01B 11/24 D
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (8)
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